[发明专利]振动元件、振动元件的制造方法、物理量传感器、惯性测量装置、电子设备以及移动体在审
申请号: | 201910241056.9 | 申请日: | 2019-03-28 |
公开(公告)号: | CN110323326A | 公开(公告)日: | 2019-10-11 |
发明(设计)人: | 佐佐木奖悟;志村匡史;山口启一;押尾政宏 | 申请(专利权)人: | 精工爱普生株式会社 |
主分类号: | H01L41/04 | 分类号: | H01L41/04;H01L41/09;H01L41/113;H01L41/253;G01C21/16;G01C19/5628;G01C19/5621 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 刘畅;邓毅 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 振动元件 电极膜 配置 重膜 振动臂 基部 主面 惯性测量装置 物理量传感器 电子设备 施重部 移动体 臂部 正反关系 末端侧 制造 延伸 | ||
1.一种振动元件,其特征在于,具有:
基部;
振动臂,所述振动臂从所述基部起延伸,具有位于所述基部侧并配置有电极膜的臂部和比所述臂部靠末端侧的施重部;以及
施重膜,所述施重膜配置于所述施重部,
所述振动臂具有处于正反关系的第1主面和第2主面,
所述电极膜和所述施重膜配置在所述第1主面和所述第2主面上,
配置在所述第1主面上的所述电极膜的厚度、配置在所述第1主面上的所述施重膜的厚度、配置在所述第2主面上的所述电极膜的厚度以及配置在所述第2主面上的所述施重膜的厚度分别为50nm以上且500nm以下。
2.根据权利要求1所述的振动元件,其中,
在所述第1主面和所述第2主面中的至少一方上,所述臂部的与所述施重部连续的区域处的所述电极膜的厚度与所述施重膜的厚度相同。
3.根据权利要求1或2所述的振动元件,其中,
配置在所述第1主面上的所述电极膜的厚度为配置在所述第2主面上的所述电极膜的厚度的50%以上且200%以下。
4.根据权利要求1所述的振动元件,其中,
配置在所述第1主面上的所述施重膜的厚度为配置在所述第2主面上的所述施重膜的厚度的50%以上且200%以下。
5.根据权利要求1所述的振动元件,其中,
所述电极膜和所述施重膜分别具有位于振动臂侧的第1膜和位于所述第1膜的与所述振动臂侧相反侧且比所述第1膜厚的第2膜。
6.根据权利要求5所述的振动元件,其中,
所述第1膜含有Cr,所述第2膜含有Au。
7.一种振动元件的制造方法,其特征在于,所述振动元件的制造方法具有以下工序:
形成基部、振动臂、电极膜和施重膜,其中,所述振动臂从所述基部起延伸且具有位于所述基部侧的臂部和比所述臂部靠末端侧的施重部,并且所述振动臂具有处于正反关系的第1主面和第2主面,所述电极膜配置在所述臂部处的所述第1主面和所述第2主面各自上并且厚度为50nm以上且500nm以下,所述施重膜配置在所述施重部处的所述第1主面和所述第2主面各自上并且厚度为50nm以上且500nm以下;以及
通过照射能量线来去除所述施重膜的一部分和所述电极膜的一部分中的至少一方,从而调整所述振动臂的谐振频率。
8.根据权利要求7所述的振动元件的制造方法,其中,
调整所述振动臂的谐振频率的工序是如下这样的工序:去除被配置在所述第1主面上的所述电极膜的一部分和所述施重膜的一部分中的至少一方,同时去除被配置在所述第2主面上的所述电极膜的一部分和所述施重膜的一部分中的至少一方。
9.根据权利要求7所述的振动元件的制造方法,其中,
调整所述振动臂的谐振频率的工序是如下这样的工序:在去除被配置在所述第1主面上的所述电极膜的一部分和所述施重膜的一部分中的至少一方之后,将所述振动臂收纳于封装中,去除被配置在所述第2主面上的所述电极膜的一部分和所述施重膜的一部分中的至少一方。
10.一种物理量传感器,其特征在于,具有:
权利要求1~6中的任意一项所述的振动元件;以及
收纳有所述振动元件的封装。
11.一种惯性测量装置,其特征在于,具有:
权利要求10所述的物理量传感器;以及
与所述物理量传感器电连接的电路。
12.一种电子设备,其特征在于,具有:
权利要求1~6中的任意一项所述的振动元件;以及
向所述振动元件输出驱动信号的电路。
13.一种移动体,其特征在于,具有:
权利要求1~6中的任意一项所述的振动元件;以及
主体,其搭载了具有所述振动元件的物理量传感器。
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