[发明专利]微流控装置及其驱动方法有效
申请号: | 201910244788.3 | 申请日: | 2019-03-28 |
公开(公告)号: | CN109999929B | 公开(公告)日: | 2021-04-30 |
发明(设计)人: | 周一安;席克瑞;林柏全;秦锋;李小和;刘金娥 | 申请(专利权)人: | 上海天马微电子有限公司 |
主分类号: | B01L3/00 | 分类号: | B01L3/00 |
代理公司: | 北京晟睿智杰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11603 | 代理人: | 于淼 |
地址: | 201201 上海*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 微流控 装置 及其 驱动 方法 | ||
1.一种微流控装置,其特征在于,包括:衬底基板和位于所述衬底基板一侧的电极层;
所述电极层包括第一电极、第二电极和第三电极;
多个通道,所述通道至少包括一个所述第一电极、两个所述第二电极、一个所述第三电极和一个壁垒;
同一通道中,两个所述第二电极位于所述第一电极的同一侧,且两个所述第二电极沿第一方向排列;
所述壁垒与所述电极层位于所述衬底基板的同一侧,所述壁垒为T字型结构,且所述壁垒包括沿所述第一方向延伸的第一分部和沿第二方向延伸的第二分部;
所述壁垒包括位于所述第一电极和所述第二电极之间的第一壁垒,所述第一壁垒的所述第一分部位于所述第一电极和所述第二电极之间,所述第一壁垒的所述第二分部位于两个所述第二电极之间,其中,所述第一方向和所述第二方向相交;
所述第三电极沿所述第一方向延伸,所述第三电极在所述衬底基板所在平面的垂直投影位于所述第一壁垒的所述第一分部在所述衬底基板所在平面的垂直投影内。
2.根据权利要求1所述的微流控装置,其特征在于,
所述壁垒在所述衬底基板所在平面的垂直投影图案为轴对称图形,所述第三电极在所述衬底基板所在平面的垂直投影图案也为轴对称图形,且两者的对称轴相同;
两个所述第二电极的形状和大小均相同,两个所述第二电极与所述第三电极之间的间距相同,且两个所述第二电极与所述第二分部之间的间距相同。
3.根据权利要求1所述的微流控装置,其特征在于,
在垂直于所述衬底基板所在平面的方向上,所述壁垒的高度大于所述第一电极的高度,且大于所述第二电极的高度。
4.根据权利要求1所述的微流控装置,其特征在于,
所述第三电极位于所述第一分部远离所述衬底基板的一侧。
5.根据权利要求1所述的微流控装置,其特征在于,
所述第一分部包括通孔,所述第三电极位于所述通孔内。
6.根据权利要求5所述的微流控装置,其特征在于,
所述第一分部包括围绕所述通孔的侧壁,所述侧壁包括沿所述第二方向相对设置的第一侧壁和第二侧壁,所述第一侧壁和第二侧壁均沿所述第一方向延伸,且所述第二侧壁和所述第二分部相连接;
所述第一侧壁上设有一个第一缺口,所述第二侧壁上设有两个第二缺口,两个所述第二缺口沿所述第一方向相对设置于所述第二分部的两侧。
7.根据权利要求1所述的微流控装置,其特征在于,
所述电极层还包括第四电极和第五电极;
所述壁垒还包括第二壁垒;
所述通道还包括四个所述第四电极、两个第五电极和两个第二壁垒;
每个所述第二电极和两个所述第四电极对应设置,与同一所述第二电极相对应的两个所述第四电极位于所述第二电极的同一侧,且两个所述第四电极沿第一方向排列;
每个所述第二电极和与其相对应的两个所述第四电极之间均设有一个所述第二壁垒,所述第二壁垒的所述第一分部位于所述第二电极和所述第四电极之间,所述第二壁垒的所述第二分部位于两个所述第四电极之间;
所述第五电极和所述第二壁垒一一对应设置,所述第五电极沿所述第一方向延伸,所述第五电极在所述衬底基板所在平面的垂直投影位于与其相对应的所述第二壁垒的所述第一分部在所述衬底基板所在平面的垂直投影内。
8.根据权利要求1所述的微流控装置,其特征在于,还包括溶液池和呈阵列排布的多个驱动电极,所述溶液池包括初始电极,所述初始电极和所述驱动电极均位于所述电极层;
所述通道的一端与所述溶液池相连接,所述通道的另一端与在所述第二方向上和其最接近的所述驱动电极相连接。
9.根据权利要求1所述的微流控装置,其特征在于,还包括位于所述电极层远离所述衬底基板一侧的绝缘疏水层,所述绝缘疏水层覆盖所述电极层和所述壁垒。
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