[发明专利]基于场景自适应的红外光电传感器非均匀校正方法有效
申请号: | 201910245357.9 | 申请日: | 2019-03-28 |
公开(公告)号: | CN109974861B | 公开(公告)日: | 2020-09-22 |
发明(设计)人: | 栾亚东;周晓斌;周珂;刘栋;张宣智 | 申请(专利权)人: | 西安应用光学研究所 |
主分类号: | G01J5/00 | 分类号: | G01J5/00 |
代理公司: | 西北工业大学专利中心 61204 | 代理人: | 陈星 |
地址: | 710065 陕西*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 基于 场景 自适应 红外光 传感器 均匀 校正 方法 | ||
本发明提出一种基于场景自适应的红外光电传感器非均匀校正方法,首先确定红外探测器的参数,包括探测器工作波段,探测器的F数F#,探测器焦平面与其保护玻璃之间的距离数值L;再根据红外探测器参数确定校正镜的光学及外形参数,包括校正镜的光学材料,校正镜的F数,校正镜的焦距,校正镜的通光孔径,校正镜的第一曲率半径,校正镜的第二曲率半径,校正镜的中心厚度。采用本发明,能够将地、海面目标场景的红外辐射、光学系统自身的红外辐射,实时、完整、均匀地传输到红外探测器焦平面上,实现红外光电传感器非均匀校正。
技术领域
本发明涉及红外光电传感器非均匀校正技术,特别涉及一种基于场景自适应的红外光电传感器非均匀校正方法。
背景技术
红外光电传感器系统中的红外探测器单元,由于制造工艺、光学系统误差等因素的影响,焦平面阵列上各个探测像元的响应特性并不一致,存在非均匀性,严重影响了目标的成像质量和识别距离,必须对红外焦平面阵列进行非均匀校正。
目前常用的方法是:一般在系统镜头前或镜头与探测器之间放置一个“挡片”,为红外探测器提供一个基准温度,使其在探测器焦平面上的红外辐照度处处相等,然后采用成熟的一点或两点非均匀校正算法,实现红外探测器像元间输出信号一致,完成非均匀校正。中国专利文献CN104344897A中公开了一种红外光学系统非均匀校正机构,其中的“遮挡板”提供的基准温度是其光学系统内部的温度,不能实时反映。中国专利文献CN103528690A中公开了一种红外热像仪的非均匀校正方法,其中位于镜头和探测器间的“挡片”,只能提供光学系统内部的温度作为基准温度,不能实时反映外部地、海面场景温度。
发明内容
为解决现有技术存在的问题,本发明提出一种基于场景自适应的红外光电传感器非均匀校正方法,能够将地、海面目标场景的红外辐射、光学系统自身的红外辐射,实时、完整、均匀地传输到红外探测器焦平面上,实现红外光电传感器非均匀校正。
本发明的技术方案为:
所述一种基于场景自适应的红外光电传感器非均匀校正方法,其特征在于:包括以下步骤:
步骤1:确定红外探测器的参数,包括探测器工作波段,探测器的F数F#,探测器焦平面与其保护玻璃之间的距离数值L;
步骤2:根据步骤1确定的红外探测器参数,确定校正镜的光学及外形参数,包括校正镜的光学材料,校正镜的F数,校正镜的焦距,校正镜的通光孔径,校正镜的第一曲率半径,校正镜的第二曲率半径,校正镜的中心厚度:
校正镜的光学材料:当探测器工作波段为3um~5um时,光学材料取单晶硅;当探测器工作波段为8um~12um时,光学材料取单晶锗;
校正镜的F数取值不大于探测器的F数;
校正镜的焦距f取值范围是:f>L;
校正镜的通光孔径为D=f/F#;
校正镜的第一曲率半径R1=f*(n-1),f为校正镜的焦距,n为校正镜光学材料在探测器中心工作波长处的折射率;
校正镜的第二曲率半径R2=∞;
校正镜的中心厚度取值d=1~1.5mm;
步骤3:将步骤2确定的校正镜打入成像光路,处于红外探测器成像透镜与保护玻璃之间,将目标场景的红外辐射投射到红外探测器焦平面上,提供均匀温度场,并采用单点非均匀校正算法实现探测器非均匀校正。
有益效果
本发明不采用挡片或遮挡板,而是提出了一种校正镜,当校正镜进入成像光路后,将目标场景的红外辐射,完整、均匀的投射到探测器焦平面上,为采用单点非均匀校正算法提供均匀温度场,实现探测器非均匀校正。
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