[发明专利]一种低成本大面积无能耗辐射制冷复合薄膜及制备方法

权利要求书

1.一种低成本大面积无能耗辐射制冷复合薄膜，包括疏水层(1)，紫外吸收荧光粗糙层(2)，保护层(3)，日光反射层(4)，其特征在于:

所述的复合薄膜结构自上而下依次为，疏水层(1)，紫外吸收荧光粗糙层(2)，保护层(3)，日光反射层(4)和保护层(3)；其中：

所述疏水层(1)为聚二甲基硅氧烷，厚度是50-300um；

所述紫外吸收荧光层(2)为微纳粉末和荧光剂混合物，厚度是30um，薄膜中微纳粉末为碳酸根化合物、氧化物或硫化物，粉末颗粒大小为5-20um；；

所述保护层(3)为聚乙烯或聚丙烯薄膜，厚度是20-100um；

所述日光反射层(4)为聚丙烯或聚乙烯混合碳酸根化合物、氧化物或硫化物微纳颗粒构成的薄膜层，厚度为100-400um，颗粒大小为5-50um。

2.一种制备如权利要求1所述的一种低成本大面积无能耗辐射制冷复合薄膜的方法，其特征在于包括以下步骤：

1)将微米颗粒和聚丙烯溶液混合，然后挤压的方式生成薄膜，制备成日光反射层(4)；

2)聚合物溶液通过共挤压的方式，压制在日光反射层两表面，构成保护层(3)；

3)将添加微纳粉末和荧光剂混合物喷涂在含有日光反射层和保护层的一面，形成紫外吸收荧光粗糙层(2)；

4)将制备好的聚二甲基硅氧烷溶液喷涂或刮涂在薄膜表面形成疏水层(1)。