[发明专利]清洗装置及其动作设定方法

权利要求书

1.一种清洗装置的动作设定方法，所述清洗装置配备有：旋转轴，所述旋转轴在内部设置有清洗液通路，被能够旋转地支承；回转旋转轴，所述回转旋转轴沿着与该旋转轴大致正交的方向设置，并且，被能够旋转地支承于该旋转轴的前端；喷嘴，所述喷嘴设置于该回转旋转轴并喷射清洗液；第一马达及第二马达，所述第一马达及所述第二马达使上述旋转轴及回转旋转轴旋转，使喷嘴围绕旋转轴及回转旋转轴旋转；以及控制机构，所述控制机构分别控制所述第一马达及所述第二马达，以控制上述喷嘴的移动，其特征在于，所述清洗装置的动作设定方法包括：

显示步骤，在所述显示步骤，在显示机构中显示用于设定上述喷嘴围绕旋转轴的动作的第一旋转模型和用于设定上述喷嘴围绕回转旋转轴的动作的第二旋转模型；

设定步骤，在所述设定步骤，利用被显示的第一旋转模型及第二旋转模型，分别设定喷嘴围绕旋转轴的动作以及喷嘴围绕回转旋转轴的动作；以及

生成步骤，在所述生成步骤，根据被设定的喷嘴围绕旋转轴的动作以及喷嘴围绕回转旋转轴的动作，生成喷嘴的移动轨迹。

2.如权利要求1所述的清洗装置的动作设定方法，其特征在于，使生成的上述喷嘴的多个移动轨迹组合，而生成用于清洗被清洗物的清洗模式。

3.一种清洗装置，配备有：旋转轴，所述旋转轴在内部设置有清洗液通路，被能够旋转地支承；回转旋转轴，所述回转旋转轴沿着与该旋转轴大致正交的方向设置，并且，被能够旋转地支承于该旋转轴的前端；喷嘴，所述喷嘴设置于该回转旋转轴并喷射清洗液；第一马达及第二马达，所述第一马达及所述第二马达使上述旋转轴及回转旋转轴旋转，使喷嘴围绕旋转轴及回转旋转轴旋转；以及控制机构，所述控制机构分别控制所述第一马达及所述第二马达，以控制上述喷嘴的移动，其特征在于，

所述清洗装置配备有显示机构，所述显示机构显示设定上述喷嘴围绕旋转轴的动作的第一旋转模型和设定上述喷嘴围绕回转旋转轴的动作的第二旋转模型，

所述清洗装置基于由所述第一旋转模型及所述第二旋转模型设定的喷嘴围绕旋转轴的动作以及喷嘴围绕回转旋转轴的动作，设定喷嘴的移动轨迹。

4.如权利要求3所述的清洗装置，其特征在于，在上述显示机构中，配备有生成用于清洗被清洗物的清洗模式的清洗模式生成部，由该清洗模式生成部使多个清洗轨迹组合起来生成上述清洗模式。