[发明专利]一种MWT与TopCon结合的太阳能电池及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201910247239.1 申请日: 2019-03-29
公开(公告)号: CN109935642A 公开(公告)日: 2019-06-25
发明(设计)人: 武青茹;张高洁;张凤鸣;路忠林;吴仕梁 申请(专利权)人: 江苏日托光伏科技股份有限公司
主分类号: H01L31/0224 分类号: H01L31/0224;H01L31/068;H01L31/18
代理公司: 南京乐羽知行专利代理事务所(普通合伙) 32326 代理人: 李玉平
地址: 214028 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 太阳能电池 基底硅片 太阳能电池转换效率 背面金属电极层 超薄氧化层 发射极层 减反射膜 少子寿命 电极点 钝化膜 负极孔 银栅线 薄层 堵孔 极点 银电 银浆 背面 制造 扩散
【权利要求书】:

1.一种MWT与TopCon结合的太阳能电池,其特征在于:包括打有多个负极孔的N型基底硅片;所述N型基底硅片的正面依次设有P+扩散发射极层、Al2O3钝化膜、SiNx减反射膜、正银栅线层和正银电极点层;所述N型基底硅片的背面依次设有超薄氧化层、P掺杂n型硅薄层、背面金属电极层和堵孔银浆电极点层。

2.如权利要求1所述的MWT与TopCon结合的太阳能电池,其特征在于:所述负极孔内设有银浆用于堵孔,负极孔孔口处的银浆在N型基底硅片的背面形成堵孔银浆电极点。

3.如权利要求1所述的MWT与TopCon结合的太阳能电池,其特征在于:所述负极孔为圆锥形负极孔。

4.如权利要求1所述的MWT与TopCon结合的太阳能电池,其特征在于:所述超薄氧化层为超薄隧穿SiO2

5.如权利要求1所述的MWT与TopCon结合的太阳能电池,其特征在于:所述超薄氧化层的厚度为1.4±0.1nm。

6.如权利要求1所述的MWT与TopCon结合的太阳能电池,其特征在于:所述N型基底硅片上打有36个负极孔。

7.一种如权利要求1-6任意一项所述MWT与TopCon结合的太阳能电池的制造方法,其特征在于,包括如下步骤:

步骤1,采用N型基底硅;

步骤2,在N型基底硅上进行激光打孔,打36个负极孔,做MWT技术;

步骤3,制绒;

步骤4,在N型基底硅正面形成P+发射极;

步骤5,刻蚀;

步骤6,氧化退火做背面超薄氧化层;

步骤7,沉积掺磷非晶硅;

步骤8,正面沉积Al2O3和SiNx减反射膜;

步骤9,丝网印刷:背电极印刷、堵孔电极印刷、背电场印刷、正电极印刷。

8.如权利要求7所述的MWT与TopCon结合的太阳能电池的制造方法,其特征在于,所述步骤4中,采用硼扩散方式硼扩散,形成P+扩散发射极。

9.如权利要求7所述的MWT与TopCon结合的太阳能电池的制造方法,其特征在于,利用LPCVD设备制备沉积掺磷非晶硅,掺杂非晶硅后再过一次氮气退火1000s,15000sccm流量。

10.如权利要求7所述的MWT与TopCon结合的太阳能电池的制造方法,其特征在于,氧化退火采用600s,900sccm氧气退火。

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