[发明专利]表面处理废水的近零排放处理工艺及其系统在审
申请号: | 201910251294.8 | 申请日: | 2019-03-29 |
公开(公告)号: | CN109775900A | 公开(公告)日: | 2019-05-21 |
发明(设计)人: | 应润兵;孙小琪;黄丹 | 申请(专利权)人: | 泽润环境科技(广东)有限公司 |
主分类号: | C02F9/04 | 分类号: | C02F9/04 |
代理公司: | 深圳市千纳专利代理有限公司 44218 | 代理人: | 刘晓敏 |
地址: | 523000 广东省东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 表面处理废水 系统处理 零排放 处理工艺 废水处理工艺 无机盐 重金属离子 高倍浓缩 节能减排 软化处理 硅处理 资源化 水体 回收 | ||
1.一种表面处理废水的近零排放处理工艺,其特征在于,包括以下步骤:
S1、ZRF1系统处理:表面处理废水进入ZRF1系统处理,通过ZRF1系统的功能膜去除废液中的部分悬浮颗粒和大分子胶体,获得预处理废水;
S2、ZRF2系统处理:预处理废水进入ZRF2系统处理,通过ZRF2系统的功能膜过滤预处理废水中的重金属离子以及无机盐,从ZRF2系统的高压侧获得第一浓缩液,从ZRF2系统的低压侧获得第一产水;
S3、ZRF3系统处理:第一浓缩液进入ZRF3系统处理,通过ZRF3系统的功能膜过滤第一浓缩液中的重金属离子以及无机盐,从ZRF3系统的高压侧获得第二浓缩液,从ZRF3系统的低压侧获得第二产水;
S4、除硅处理:从步骤S3获得的第二浓缩液进入第一离子交换系统,通过离子交换的方法去除第二浓缩液中的二氧化硅,从第一离子交换系统的出水口获得第一出水;
S5、软化处理:从步骤S4获得的第一出水进入第二离子交换系统,通过离子交换的方法去除第一出水中的钙离子和镁离子,从第二离子交换系统的出水口获得第二出水;
S6、ZRF4系统处理:从步骤S5获得的第二出水进入ZRF4系统处理,通过ZRF4系统的功能膜去除第二出水中的悬浮颗粒和胶体,获得第三出水;
S7、ZRF5系统处理:经步骤S6处理后的第三出水进入ZRF5系统处理,通过ZRF5系统的功能膜过滤第三出水中的重金属离子以及无机盐,从ZRF5系统的高压侧获得第三浓缩液,从ZRF5系统的低压侧获得第三产水;
S8、ZRF6系统处理:从ZRF2系统、ZRF3系统以及ZRF5系统中获得的第一产水、第二产水以及第三产水均进入ZRF6系统处理,通过ZRF6系统的功能膜进一步去除第一产水、第二产水以及第三产水中的残留重金属离子以及无机盐,从ZRF6系统的高压侧获得第四浓缩液,从ZRF6系统的低压侧获得第四产水;
S9、将第四产水回收再用。
2.根据权利要求1所述的表面处理废水的近零排放处理工艺,其特征在于:所述ZRF1系统为超滤膜系统;所述ZRF2系统为反渗透系统;所述ZRF3系统为反渗透海水淡化系统;所述ZRF4系统为管式微滤膜系统;所述ZRF5系统为高压反渗透系统;所述ZRF6系统为反渗透系统。
3.根据权利要求2所述的表面处理废水的近零排放处理工艺,其特征在于:从ZRF6系统获得的第四浓缩液进入ZRF2系统循环处理。
4.根据权利要求1所述的表面处理废水的近零排放处理工艺,其特征在于:从ZRF5系统中获得的第三浓缩液回收处理。
5.一种表面处理废水的近零排放处理系统,其特征在于,包括ZRF1系统、ZRF2系统、ZRF3系统、第一离子交换系统、第二离子交换系统、ZRF4系统、ZRF5系统以及ZRF6系统;
所述ZRF1系统的出水端和所述ZRF2系统的进水端连通,所述ZRF2系统的高压侧和所述ZRF3系统的进水端连通,所述ZRF3系统的高压侧和所述第一离子交换系统的进水端连通,所述第一离子交换系统的出水端和所述第二离子交换系统的进水端连通,所述第二离子交换系统的出水端和所述ZRF4系统的进水端连通,所述ZRF4系统的出水端和所述ZRF5系统的进水端连通,所述ZRF2系统的低压侧、所述ZRF3系统的低压侧以及所述ZRF5系统的低压侧分别与所述ZRF6系统的进水端连通。
6.根据权利要求5所述的表面处理废水的近零排放处理系统,其特征在于:所述ZRF1系统为超滤膜系统;所述ZRF2系统为反渗透系统;所述ZRF3系统为反渗透海水淡化系统;所述ZRF4系统为管式微滤膜系统;所述ZRF5系统为高压反渗透系统;所述ZRF6系统为反渗透系统。
7.根据权利要求6所述的表面处理废水的近零排放处理系统,其特征在于:所述ZRF6系统的高压侧和所述ZRF2系统的进水端连通。
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