[发明专利]一种离子束刻蚀系统

权利要求书

1.一种离子束刻蚀系统，包括反应腔体，载片台，离子源，挡板及挡板驱动装置，其特征在于，

所述挡板包括连接部和遮挡部，

所述连接部与所述挡板驱动装置相连接，所述挡板在所述挡板驱动装置的作用下绕着驱动轴线在上下两个极限位置间进行旋转，所述驱动轴线与第一方向大致平行，

所述遮挡部设置于所述离子源的栅网与所述载片台之间，当所述挡板位于上极限位置，离子束从离子源的栅网发射至遮挡部的表面，所述遮挡部将被离子束溅射出来的挡板材料反射到离子源的栅网以外的区域，

其中，所述遮挡部的至少一个面呈斜面，所述斜面向远离所述离子源的方向倾斜，与第二方向的夹角为锐角，所述第二方向与所述第一方向大致垂直；

或者所述遮挡部面向所述离子源的栅网的一侧呈球面状，且球面的中心线与离子源的中心轴线重合。

2.根据权利要求1所述的离子束刻蚀系统，其特征在于，

所述遮挡部仅包括第一斜面，且所述第一斜面与所述第二方向呈15°～60°夹角。

3.根据权利要求1所述的离子束刻蚀系统，其特征在于，

所述遮挡部包括第二斜面和第三斜面，并且所述第二斜面与所述第三斜面的连接处位于离子源的中心轴线上，所述离子源的中心轴线与所述第一方向大致平行。

4.根据权利要求3所述的离子束刻蚀系统，其特征在于，

所述第二斜面与所述第二方向的夹角为30°～75°，所述第三斜面与所述第二方向的夹角为30°～75°。

5.根据权利要求3所述的离子束刻蚀系统，其特征在于，

所述第二斜面与所述第三斜面以所述离子源的中心轴线为对称轴对称设置。

6.根据权利要求1～5中任一项所述的离子束刻蚀系统，其特征在于，

所述挡板的材料采用石墨、碳纤维或钼。

7.根据权利要求1～5中任一项所述的离子束刻蚀系统，其特征在于，

所述遮挡部的尺寸比所述离子源的栅网的尺寸大20～50mm。

8.根据权利要求1～5中任一项所述的离子束刻蚀系统，其特征在于，

所述挡板的厚度在2～6mm之间。