[发明专利]显示面板膜层结构及其制备工艺

权利要求书

1.一种显示面板膜层结构，其特征在于，包括层叠设置的基底、导电膜层、光学胶膜层和盖板；

所述导电膜层包括自下至上依次设置的第一电极和第二电极；所述光学胶膜层设置于所述第一电极和第二电极之间，所述导电膜层包括金属纳米颗粒堆积形成的线型结构；

所述基底具有容纳所述第一电极的基底通道；所述光学胶膜层面向所述基底的一侧设置第一光学胶通道，所述第一光学胶通道与所述基底通道一一对应，且构成空腔，所述第一电极收容于所述空腔内；

所述第一电极和第二电极均为网格状电极，网格围绕于像素结构的周边；所述光学胶膜层背离所述基底的一侧具有容纳所述第二电极的第二光学胶通道。

2.如权利要求1所述的显示面板膜层结构，其特征在于，所述第一电极和所述第二电极具有相同的图案。

3.如权利要求2所述的显示面板膜层结构，其特征在于，所述网格电极的网格线宽度为20nm-1μm。

4.如权利要求1所述的显示面板膜层结构，其特征在于，所述金属纳米颗粒为银纳米颗粒。

5.如权利要求1所述的显示面板膜层结构，其特征在于，所述导电膜层的厚度范围为100-150um。

6.一种显示面板膜层结构的制备工艺，其特征在于，包括以下步骤：

S1、在基底的表面形成具有预设深度的基底通道；

S2、将金属纳米颗粒制备于所述基底通道内，形成第一电极；

S3、在基底和第一电极的表面形成光学胶膜层，所述金属纳米颗粒部分突出于所述基底的表面，在光学胶膜层面向所述基底的一侧形成第一光学胶通道，所述第一光学胶通道与所述基底通道一一对应，且构成空腔，所述第一电极收容于所述空腔内；

S4、在光学胶膜层背离所述基底的一侧形成第二电极，所述第一电极和第二电极均为网格状电极，网格围绕于像素结构的周边；在所述光学胶膜层背离所述基底的一侧形成第二光学胶通道，将金属纳米颗粒制备于第二光学胶通道内，形成第二电极。