[发明专利]一种峰值稳定的蒙特卡洛太阳辐射能密度仿真方法

权利要求书

1.一种峰值稳定的蒙特卡洛太阳辐射能密度仿真方法，其特征在于，包括以下步骤：

(1)根据太阳入射光模型，对入射光方向进行采样；

(2)对入射光与定日镜表面的交点进行采样；

(3)对入射光进行遮挡测试以获得接收器表面的能量密度分布初始仿真结果；

(4)将接收器表面的能量密度分布初始仿真结果进行滤波计算，获得蒙特卡洛太阳辐射能密度仿真结果，

所述滤波计算为截尾均值滤波计算，

截尾均值滤波计算的方法为：对于接收器表面的能量密度分布初始仿真结果中的每个元素，截尾均值滤波计算时将毗邻的k×k个元素中根据去除比例p删除相应数量的最大值和最小值，再计算剩余元素的平均值作为当前元素处理后的值，

k值为9～13，P值为0.01～0.05。

2.如权利要求1所述的蒙特卡洛太阳辐射能密度仿真方法，其特征在于，所述太阳入射光模型为Buie太阳光分布模型、PillBox太阳光分布模型或高斯太阳光分布模型。

3.如权利要求1所述的蒙特卡洛太阳辐射能密度仿真方法，其特征在于，步骤(2)中采样使用均匀采样的随机数生成器。

4.如权利要求1所述的蒙特卡洛太阳辐射能密度仿真方法，其特征在于，步骤(3)中遮挡测试方法包括以下步骤：

(a)如果入射光被场景中其他物体遮挡，停止计算；

(b)否则，根据入射光方向采样的微表面法向方向，计算其反射光方向；

(c)对反射光进行遮挡测试；

(d)如果反射光被场景中其他物体遮挡，停止计算；

(e)否则，计算反射光与接收器相交的像素位置，将该入射光能量密度累加到该像素。