[发明专利]颜色可调太阳光谱选择性吸收涂层及其制备方法

权利要求书

1.一种颜色可调太阳光谱选择性吸收涂层，所述吸收涂层包括基底层，在所述基底层上自下而上依次设有红外反射层、复合吸收层和减反层，其特征在于，所述复合吸收层自下而上依次包括金属铬亚层、氮化铬亚层和氮氧化铬亚层。

2.根据权利要求1所述的颜色可调太阳光谱选择性吸收涂层，其特征在于，所述基底层的材料为玻璃、铝、铜或不锈钢。

3.根据权利要求2所述的颜色可调太阳光谱选择性吸收涂层，其特征在于，所述基底采用厚度范围为0.5-10mm的玻璃板，或者所述基底层采用厚度0.2～10mm的铜、铝或者不锈钢。

4.根据权利要求1或2或3所述的颜色可调太阳光谱选择性吸收涂层，其特征在于，所述红外反射层的材料的电阻率小于2*10^-4Ωcm，所述红外反射层的厚度为100-140nm。

5.根据权利要求4所述的颜色可调太阳光谱选择性吸收涂层，其特征在于，所述红外反射层的材料为铝。

6.根据权利要求1或2或3所述的颜色可调太阳光谱选择性吸收涂层，其特征在于，所述氮化铬亚层的材料为CrNx，其中X的取值范围为0.86-1；氮氧化铬亚层的材料为CrN_YO_Z，其中Y的取值范围为0.05-0.09，Z的取值范围为1.3-1.5。

7.根据权利要求6所述的颜色可调太阳光谱选择性吸收涂层，其特征在于，所述复合吸收层的总厚度为104-134nm，其中：所述金属铬亚层厚度为25-35nm；所述CrNx亚层厚度为37-47nm；所述CrN_YO_Z亚层厚度为42-52nm。

8.根据权利要求1或2或3所述的颜色可调太阳光谱选择性吸收涂层，其特征在于，所述减反层自下而上依次包括SiN亚层和SiO₂亚层，SiN亚层厚度为0-40nm，SiO₂亚层厚度为55-110nm。

9.一种权利要求1-8任意一项所述颜色可调太阳光谱选择性吸收涂层的制备方法，其特征在于，所述方法步骤如下：

步骤S1，基底层的预处理：基底材料进行预清洗处理备用；

步骤S2，红外反射层的制备：通过脉冲直流反应磁控溅射法在基底层上溅射红外反射层，所选用靶材的纯度在99.7％以上，工作气体为氩气；

步骤S3，复合吸收层的制备：通过脉冲直流反应磁控溅射法在步骤S2的红外反射层上制备复合吸收层，所选用的靶材的纯度在99.7％以上，反应气体依次为氩气、氩气与氮气的混合气以及氩气、氮气和氧气的混合气；

步骤S4，减反层的制备：通过脉冲直流反应磁控溅射法在步骤S3的复合吸收层上制备减反层，所选用的靶材为硅铝靶，铝含量0-30％wt，铝的纯度99.7％以上，反应气体依次为氩气与氮气混合气以及氩气和氧气的混合气。