[发明专利]一种镀层厚度测量方法在审
申请号: | 201910255718.8 | 申请日: | 2019-04-01 |
公开(公告)号: | CN110006351A | 公开(公告)日: | 2019-07-12 |
发明(设计)人: | 蔡利民;汪恒;顾宇鹏;杨英彬 | 申请(专利权)人: | 江汉大学 |
主分类号: | G01B11/06 | 分类号: | G01B11/06;G01B7/06 |
代理公司: | 北京华沛德权律师事务所 11302 | 代理人: | 房德权 |
地址: | 430056 湖北省武*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 镀层厚度测量 测试件 镀层 延长线 质量检测技术 测量精度高 电化学反应 数字显微镜 表面工程 镀层腐蚀 方法测量 获取图像 拟合算法 测量 图像 拍摄 申请 损害 | ||
本发明公开了一种镀层厚度测量方法,属于表面工程质量检测技术领域。所述镀层厚度测量方法包括以下步骤:通过电化学反应将测试件一部分的镀层腐蚀掉,露出所述测试件本体表面;通过所述数字显微镜拍摄所述测试件本体表面与所述镀层连接处,获取图像;将所述图像通过拟合算法,画出所述镀层的延长线;测量延长线与所述测试件本体表面之间的间距,获得所述镀层的厚度。本申请镀层厚度测量方法测量简单,测量精度高,不会对人体造成损害。
技术领域
本发明涉及表面工程质量检测技术领域,特别涉及一种镀层厚度测量方法。
背景技术
镀层厚度测量已成为加工工业、表面工程质量检测的重要环节,是产品达到优等质量标准的必要手段。为使产品国际化,我国出口商品和涉外项目中,对镀层厚度有了明确要求。
现有技术中,一般采用X-ray方法测量镀层的厚度。其适用于测定电镀及电子线路板等行业需要分析的金属覆盖层厚度,包括:金(Au),银(Ag),锡(Sn),铜(Cu),镍(Ni),铬(Cr)等金属元素厚度。
但是,X-ray方法的测量过程复杂,精度不高,有射线危害。
发明内容
本发明提供一种镀层厚度测量方法,解决了或部分解决了现有技术中通过X-ray方法的测量镀层厚度,过程复杂,精度不高,有射线危害的技术问题。
为解决上述技术问题,本发明提供了一种镀层厚度测量方法包括以下步骤:通过电化学反应将测试件一部分的镀层腐蚀掉,露出所述测试件本体表面;通过所述数字显微镜拍摄所述测试件本体表面与所述镀层连接处,获取图像;将所述图像通过拟合算法,画出所述镀层的延长线;测量延长线与所述测试件本体表面之间的间距,获得所述镀层的厚度。
进一步地,所述通过电化学反应将测试件一部分的镀层腐蚀掉包括:将电解槽内放入电解液;将所述测试件的一部分放入所述电解槽,通过电极向所述电解槽通入直流电;所述测试件在所述电解槽内进行电解反应,将所述测试件一部分的镀层腐蚀掉。
进一步地,所述测试件在所述电解槽内进行电解反应包括:当所述电极出现电压跳变时,所述测试件一部分的所述镀层腐蚀完毕。
进一步地,所述镀层延长线的延长方向朝向所述露出的所述测试件本体表面。
进一步地,所述获得镀层的厚度包括:在所述图像上放置校正尺,获取校正尺在所述图像上的尺寸比例;根据所述尺寸比例,对所述延长线与所述测试件本体表面之间的间距进行换算,得到所述镀层的实际厚度。
进一步地,所述校正尺与所述镀层的延长线在同一视野内。
进一步地,所述校正尺为测微尺。
进一步地,所述尺寸比例为所述校正尺的标准尺寸与所述图像上的像素比例。
本申请实施例中提供的一个或多个技术方案,至少具有如下技术效果或优点:
通过电化学反应将测试件一部分的镀层腐蚀掉,露出测试件本体表面,通过数字显微镜拍摄测试件本体表面与镀层连接处,获取图像,将图像通过拟合算法,画出镀层的延长线,测量延长线与测试件本体表面之间的间距,获得镀层的厚度,所以,可以测量0.1-0.5μm的镀层厚度,测量精度高,操作简便,不会对人体造成损害。
附图说明
图1为本发明实施例提供的镀层厚度测量方法的流程示意图;
图2为图1中镀层厚度测量方法的原理图。
具体实施方式
参见图1-2,本发明实施例提供的一种镀层厚度测量方法包括以下步骤:
步骤S1,通过电化学反应将测试件一部分的镀层腐蚀掉,露出测试件本体表面。
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