[发明专利]一种液晶显示面板及其制备方法

说明书

本发明揭露一种液晶显示面板及其制备方法，本发明上基板制作流程变更为：上基板制作黑色矩阵、色阻层、光阻层、像素电极、框胶层。通过将将透明导电薄膜镀到光阻层上，镀有透明导电薄膜的光阻层对顶位置为下基板的公共电极，上下基板对组后公共电极与像素电极在光阻层处导通。本发明上下基板对组后无需通过金球导通上基板的像素电极和下基板的公共电极，减少了金球打点工序，避免金球打点偏移、甩胶等不良现象，并且减少制作流程，有效提升了液晶显示面板产品良率，提升了产品生产效率，提升了产品竞争力。

技术领域

本发明涉及液晶显示技术领域，尤其涉及一种液晶显示面板及其制备方法。

背景技术

薄膜晶体管液晶显示面板(Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display，简称TFT-LCD)一般由上基板、下基板以及一配置于两基板间的液晶层(Liquid CrystalLayer，简称LCL)所构成。上基板及下基板分别制作，上基板制作黑色矩阵(Black Matrix，简称BM)、色阻层(R/G/B)、像素电极(ITO)、光阻层(Photo spacer，简称PS)以及框胶(seal)层，框胶层内点上起导电作用的多个金球；下基板制作阵列层，上下基板对组后形成液晶盒。其中光阻层在液晶盒内起支撑液晶盒的作用，框胶层起密封作用，框胶层内的金球起着将上下基板的电极导通作用。

请参考图1-2，其中，图1为现有液晶显示面板的层状结构示意图，图2为图1所示液晶显示面板的剖面图。现有液晶显示面板由上基板11、下基板12及液晶层(未示于图中)所构成。上基板11制作黑色矩阵(BM)111、色阻层(R/G/B)112，像素电极(ITO)113、光阻层(PS)114以及框胶层115。框胶层115位于液晶显示面板的显示区10外围，框胶层115内点上起导电作用的多个金球116；下基板12制作阵列层，阵列层包括第一金属层(M1)121、栅绝缘层(GI)122、第一钝化层(PV1)123、第二钝化层(PV2)124以及公共电极(COM ITO)125。上下基板对组后通过金球116导通上基板11的像素电极113和下基板12的公共电极125。

现有液晶显示面板上基板的制备流程是：上基板制作黑色矩阵、色阻层、像素电极、光阻层以及框胶层，金球通过单独的制作程序制作到上基板的框胶层内。这种方式制备的液晶显示面板，很容易出现金球打点偏移、或则甩胶等现象，导致不该导通的地方出现短路现象，进而影响液晶显示面板的显示质量。

发明内容

本发明的目的在于，针对现有技术存在的问题，提供一种液晶显示面板及其制备方法，可以减少金球打点工序，避免金球打点偏移、甩胶等不良现象，并且减少制作流程，可以提升液晶显示面板产品良率，提升产品生产效率，提升产品竞争力。

为实现上述目的，本发明提供了一种液晶显示面板的制备方法，包括如下步骤：(1)在上基板上依次制作黑色矩阵、色阻层以及光阻层；(2)在所述上基板上制作像素电极，所述像素电极覆盖所述光阻层；(3)在下基板上依次制作第一金属层、栅绝缘层、钝化层以及公共电极；(4)将所述上基板与所述下基板对组，所述公共电极与所述像素电极在所述光阻层处导通。

为实现上述目的，本发明还提供了一种液晶显示面板，所述液晶显示面板包括相对设置上基板、下基板，所述上基板和所述下基板对组后形成液晶盒；所述上基板包括依次层叠设置的黑色矩阵、色阻层、光阻层以及像素电极，所述像素电极覆盖所述光阻层；所述下基板包括依次层叠设置的第一金属层、栅绝缘层、钝化层以及公共电极；所述上基板与所述下基板对组后，所述公共电极与所述像素电极在所述光阻层处导通。

本发明的优点在于：本发明通过变更上基板制作流程，将透明导电薄膜镀到光阻层上，镀有透明导电薄膜的光阻层对顶位置为下基板的公共电极，上下基板对组后公共电极与像素电极在光阻层处导通，可以减少金球打点工序，避免金球打点偏移、甩胶等不良现象，并且减少制作流程，有效提升了液晶显示面板产品良率，提升了产品生产效率，提升了产品竞争力。

附图说明