[发明专利]一种掩膜版和蒸镀装置

说明书

本发明公开了一种掩膜版和蒸镀装置。掩膜版包括版体，版体上设置有蒸镀孔；版体上还设置有尘埃容纳凹部，尘埃容纳凹部与蒸镀孔之间具有共有侧壁，共有侧壁分隔尘埃容纳凹部和蒸镀孔。该掩膜版，其版体上设置有蒸镀孔和尘埃容纳凹部，尘埃容纳凹部与蒸镀孔之间具有共有侧壁，共有侧壁分隔尘埃容纳凹部和蒸镀孔，即尘埃容纳凹部与蒸镀孔间隔设置，在蒸镀时，通过尘埃容纳凹部来容纳尘埃，可以改善蒸镀过程中的尘埃颗粒污染，极大提高产品良率，而掩膜版与基板之间的距离就是蒸镀孔与基板之间的距离，这样形成的蒸镀阴影也不会增大。

技术领域

本文涉及蒸镀设备技术领域，尤指一种掩膜版和一种蒸镀装置。

背景技术

OLED显示设备中，有机物的制作需要使用掩膜版。掩膜版在蒸镀过程中需要注意两方面，一方面是掩膜版与基板之间有一定距离，而蒸镀粒子在水平方向具有一定的分速度，会产生蒸镀阴影；另一方面是蒸镀过程中不可避免的灰尘，需要进行防灰尘设计。

如图1所示，一种掩膜版的防灰尘方案，通过在版体100上蒸镀孔101处设置沉孔102(半蚀刻孔)，蒸镀孔101位于沉孔102的底壁上，蒸镀孔101之外的沉孔102的底壁用来承接灰尘，该方案因增加了蒸镀孔101与基板之间的距离(其大于掩膜版与基板之间的距离)，故其形成的蒸镀阴影会增大(增大的蒸镀阴影见图中a处)。图1中，标号200为蒸镀源，标号300为基板。

发明内容

为了解决上述技术问题中的至少之一，本文提供了一种掩膜版，在蒸镀时既满足防灰尘，还能够防止蒸镀阴影增大。

本发明还提供了一种蒸镀在装置。

本发明提供的掩膜版，包括版体，所述版体上设置有蒸镀孔；所述版体上还设置有尘埃容纳凹部，所述尘埃容纳凹部与所述蒸镀孔之间具有共有侧壁，所述共有侧壁分隔所述尘埃容纳凹部和所述蒸镀孔。

可选地，所述尘埃容纳凹部为容纳槽。

可选地，所述容纳槽为环形槽，所述蒸镀孔位于所述环形槽围成区域的内侧。

可选地，所述环形槽的宽度为100～300μm。

可选地，所述环形槽的背向所述蒸镀孔的一侧封闭或贯通。

可选地，所述蒸镀孔与所述环形槽之间的距离为100um～1mm，即所述共有侧壁的宽度为100um～1mm。

可选地，所述容纳槽为非环形槽。

可选地，所述非环形槽的直径为0.1～3μm。

可选地，所述非环形槽包括多个，多个所述非环形槽在所述蒸镀孔的周向上均匀布置。

本发明提供的蒸镀装置，包括上述任一实施例所述的掩膜版。

与现有技术相比，本发明提供的掩膜版，其版体上设置有蒸镀孔和尘埃容纳凹部，尘埃容纳凹部与蒸镀孔之间具有共有侧壁，共有侧壁分隔尘埃容纳凹部和蒸镀孔，即尘埃容纳凹部与蒸镀孔间隔设置，在蒸镀时，通过尘埃容纳凹部来容纳尘埃，可以改善蒸镀过程中的尘埃颗粒污染，极大提高产品良率，而掩膜版与基板之间的距离就是蒸镀孔与基板之间的距离，这样形成的蒸镀阴影也不会增大。

本文的其它特征和优点将在随后的说明书中阐述，并且，部分地从说明书中变得显而易见，或者通过实施本文而了解。本文的目的和其他优点可通过在说明书、权利要求书以及附图中所特别指出的结构来实现和获得。

附图说明

附图用来提供对本文技术方案的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本申请的实施例一起用于解释本文的技术方案，并不构成对本文技术方案的限制。

图1为相关技术所述的掩膜版的防灰尘方案的剖面结构示意图；