[发明专利]调节结构、摄像头及终端设备

权利要求书

1.一种调节结构，用于调节摄像头的摄像部件，其特征在于，包括：

电磁线圈；和

变形片，所述变形片设置在所述电磁线圈的磁场内，用于与所述摄像部件连接，所述变形片在磁场中发生变形以调节所述摄像部件；

其中，所述变形片包括：非磁性的基片；和

第一磁致伸缩层，所述第一磁致伸缩层设置在所述基片的一面上，所述基片的一面上依次设置有多个所述第一磁致伸缩层，多个所述第一磁致伸缩层在磁场中的变形量不相同且越靠近基片设置的第一磁致伸缩层的变形量越小，所述第一磁致伸缩层在所述磁场内发生变形，以使所述变形片变形调节所述摄像部件。

2.根据权利要求1所述的调节结构，其特征在于，

所述磁场垂直或平行于所述第一磁致伸缩层，所述第一磁致伸缩层沿所述基片的一面伸长，以使所述变形片的一端翘起调节所述摄像部件。

3.根据权利要求2所述的调节结构，其特征在于，

所述变形片还包括：第二磁致伸缩层，所述第二磁致伸缩层设置在所述基片的另一面上，所述第二磁致伸缩层在所述磁场内发生变形，所述第二磁致伸缩层的变形方向与所述第一磁致伸缩层的变形方向相反。

4.根据权利要求3所述的调节结构，其特征在于，

所述第一磁致伸缩层为稀土铁合金层；和/或

所述第二磁致伸缩层为稀土铁合金层。

5.根据权利要求3所述的调节结构，其特征在于，

所述第一磁致伸缩层的厚度为0.01mm～0.02mm；和/或

所述第二磁致伸缩层的厚度为0.01mm～0.02mm。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的调节结构，其特征在于，

所述变形片还包括：保护层，所述保护层设置在所述第一磁致伸缩层的外表面上。

7.根据权利要求1至5中任一项所述的调节结构，其特征在于，

所述基片的厚度为0.1mm～0.2mm。

8.一种摄像头，其特征在于，包括：

摄像部件，所述摄像部件包括镜头或光圈环；

如权利要求1-7中任一项所述的调节结构，所述调节结构与所述摄像部件连接，用于调节所述摄像部件；和

控制装置，所述控制装置与所述调节结构的电磁线圈连接，用于控制所述电磁线圈电流的大小。

9.一种终端设备，其特征在于，包括如权利要求8所述的摄像头。