[发明专利]基板处理装置

权利要求书

1.一种基板处理装置，其中，包括：

多个显像腔室，排列为一列；及，

多个显影液供给喷嘴，设置于所述多个显像腔室，向基板提供显影液，

所述多个显影液供给喷嘴包括：

主喷嘴，向所述基板首次提供显影液；及，

一个以上辅助喷嘴，设置于所述主喷嘴的下游，向所述基板第二次提供显影液，

所述辅助喷嘴包括：

第一辅助喷嘴，设置于所述主喷嘴的下游；及，

第二辅助喷嘴，设置于所述第一辅助喷嘴的下游，

所述第一辅助喷嘴与所述第二辅助喷嘴在显影液吐出流量、显影液吐出压力、从基板离开的距离、显影液吐出口的大小、提供至基板的显影液的运动量中至少有一个不同。

2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，

还包括喷嘴移动单元，所述喷嘴移动单元相对于所述主喷嘴向所述基板的移送方向移动所述辅助喷嘴。

3.根据权利要求2所述的基板处理装置，其中，

所述喷嘴移动单元构成为在所述多个显像腔室之间移动所述辅助喷嘴。

4.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，

还包括喷嘴升降单元，所述喷嘴升降单元向邻近所述基板的方向或向从所述基板离开的方向移动所述辅助喷嘴。

5.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，

还包括振动发生单元，所述振动发生单元用于振动涂布于所述基板上的显影液。

6.根据权利要求5所述的基板处理装置，其中，

还包括移动机构，所述移动机构使得所述振动发生单元向平行于所述基板的方向移动。

7.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，

所述第二辅助喷嘴吐出的显影液的流量大于所述第一辅助喷嘴吐出的显影液的流量。

8.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，

所述基板及所述第二辅助喷嘴之间的间隔大于所述基板及所述第一辅助喷嘴之间的间隔。

9.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，

还包括多个显影液去除单元，所述显影液去除单元设置于所述多个显影液供给喷嘴的各自的下游。

10.根据权利要求9所述的基板处理装置，其中，

所述显影液去除单元包括气体喷射喷嘴及清洗液喷射喷嘴中的至少一个，所述气体喷射喷嘴用于向所述基板喷射气体，所述清洗液喷射喷嘴用于向所述基板喷射清洗液。

11.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，

所述主喷嘴具备显影液吐出口，所述显影液吐出口为向所述基板的宽度方向延长的缝隙或槽形状。

12.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，

所述辅助喷嘴具备多个吐出孔，所述多个吐出孔向所述基板的宽度方向以规定间隔间隔开设置。

13.一种基板处理装置，其中，包括：

主喷嘴，其向基板首次提供显影液；

第一辅助喷嘴，其设置于所述主喷嘴的下游，所述第一辅助喷嘴向所述基板第二次提供显影液，以补充在所述基板移送过程中流失的显影液；及，

第二辅助喷嘴，其设置于所述第一辅助喷嘴的下游，所述第二辅助喷嘴向所述基板吐出显影液，以搅乱所述基板上的显影液，

所述第一辅助喷嘴与所述第二辅助喷嘴在显影液吐出流量、显影液吐出压力、从基板离开的距离、显影液吐出口的大小、提供至基板的显影液的运动量中至少有一个不同。