[发明专利]一种晶体硅太阳能电池的镀膜方法有效
申请号: | 201910261761.5 | 申请日: | 2019-04-02 |
公开(公告)号: | CN109935640B | 公开(公告)日: | 2021-11-05 |
发明(设计)人: | 张鹤;王亨;张良俊;韩方虎;姚良 | 申请(专利权)人: | 江苏微导纳米科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L31/0216 | 分类号: | H01L31/0216;H01L31/18 |
代理公司: | 南京知识律师事务所 32207 | 代理人: | 万婧 |
地址: | 214028 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 晶体 太阳能电池 镀膜 方法 | ||
1.一种晶体硅太阳能电池的镀膜方法,利用多电极PECVD系统沉积硅基薄膜,沉积反应为硅源气体和惰性气体在等离子体作用下反应,反应的压力为30Pa~1000Pa、反应温度为50℃~650℃、其中硅源与惰性气体的流量比范围为0.05~1:2.5~50;所述等离子体的馈入功率为3kW~20kW;其特征在于,
所述硅源为SiH4、Si2H6、SiHCl3、SiH2Cl2、SiH3Cl、SiH(NH2)3中的至少一种;
所述硅源气体流量范围在0.77~1SLM、惰性气体的流量范围在6SLM;
所述的惰性气体为Ar、He、Ne中的任一种。
2.根据权利要求1所述的镀膜方法,其特征在于,所述多电极PECVD系统为管式PECVD系统。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
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