[发明专利]一种可见光吸收纳米阵列及其应用在审
申请号: | 201910262089.1 | 申请日: | 2019-04-02 |
公开(公告)号: | CN111208093A | 公开(公告)日: | 2020-05-29 |
发明(设计)人: | 张永军;赵晓宇;王雅新;温嘉红;陈雷;高稔现 | 申请(专利权)人: | 杭州电子科技大学 |
主分类号: | G01N21/59 | 分类号: | G01N21/59;G01N21/25 |
代理公司: | 杭州杭诚专利事务所有限公司 33109 | 代理人: | 尉伟敏 |
地址: | 310018 浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 可见 光吸收 纳米 阵列 及其 应用 | ||
1.一种可见光吸收纳米阵列,其特征在于,所述的纳米阵列由呈周期性排布的纳米柱构成,所述的纳米柱之间具有固定结构周期,所述的纳米柱之间的介质为空气。
2.根据权利要求1所述的一种可见光吸收纳米阵列,其特征在于,所述的纳米阵列中的纳米柱其形状、大小以及高度均相同。
3.根据权利要求2所述的一种可见光吸收纳米阵列,其特征在于,所述的纳米柱构呈长方体、圆柱体或者锥形。
4.根据权利要求1或2或3所述的一种可见光吸收纳米阵列,其特征在于,所述的纳米柱构为四角密排的长方体结构,其长度为15~30nm,宽度为15~30nm,高度为200~2000nm。
5.根据权利要求4所述的一种可见光吸收纳米阵列,其特征在于,所述的纳米柱构为长宽均为20nm,高度为1800nm的长方体结构。
6.根据权利要求1或2或3所述的一种可见光吸收纳米阵列,其特征在于,所述的纳米柱构在纳米阵列中的结构周期20~30nm。
7.一种如权利要求1~6中所述的可见光吸收纳米阵列在可见光吸收器件中的应用。
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