[发明专利]一种氮化物量子阱结构深紫外发光二极管有效
申请号: | 201910262252.4 | 申请日: | 2019-04-02 |
公开(公告)号: | CN109950374B | 公开(公告)日: | 2021-04-16 |
发明(设计)人: | 李毅;钱星鹏;朱友华;王美玉 | 申请(专利权)人: | 南通大学 |
主分类号: | H01L33/06 | 分类号: | H01L33/06;H01L33/32 |
代理公司: | 南京同泽专利事务所(特殊普通合伙) 32245 | 代理人: | 蔡晶晶 |
地址: | 226019*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 氮化物 量子 结构 深紫 发光二极管 | ||
1. 一种氮化物量子阱结构深紫外发光二极管,从下到上至少包括:N型半导体层、发光层、P型半导体层,所述发光层为由势垒层和势阱层交替堆叠形成的多量子阱结构,其特征在于:相邻所述势垒层和势阱层之间设置有InxAl1-xN插入层,且InxAl1-xN插入层的能隙大于势阱层的能隙;所述势阱层为AlzGa1-zN层,势阱层中铝组分z 的取值范围为1>z≥0.4; 所述势垒层为AlyGa1-yN层,势垒层中铝组分y 的取值范围为1>yz。
2.根据权利要求1所述的氮化物量子阱结构深紫外发光二极管,其特征在于:所述InxAl1-xN插入层的厚度为1-4纳米。
3.根据权利要求1所述的氮化物量子阱结构深紫外发光二极管,所述InxAl1-xN插入层中铟组分x0.21。
4.根据权利要求3所述的氮化物量子阱结构深紫外发光二极管,其特征在于:所述InxAl1-xN插入层与势垒层的能带排列为type-II型排列,且InxAl1-xN插入层的能隙与势垒层的能隙相差5%以内。
5.根据权利要求1所述的氮化物量子阱结构深紫外发光二极管,其特征在于:所述发光层的发光波长在210-300nm光谱范围内。
6.根据权利要求1所述的氮化物量子阱结构深紫外发光二极管,其特征在于:所述N型半导体层的下方还具有自下而上依次为衬底、缓冲层和超晶格层。
7.根据权利要求1所述的氮化物量子阱结构深紫外发光二极管,其特征在于:P型半导体层上方设置有P型欧姆接触层。
8.根据权利要求1所述的氮化物量子阱结构深紫外发光二极管,其特征在于:所述多量子阱结构的周期为2-20。
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