[发明专利]一种放射源及其制备方法在审
申请号: | 201910264531.4 | 申请日: | 2019-04-03 |
公开(公告)号: | CN109994243A | 公开(公告)日: | 2019-07-09 |
发明(设计)人: | 高岩;崔洪起;史晨钟;任春侠;陈晨;王念;谭小明 | 申请(专利权)人: | 原子高科股份有限公司 |
主分类号: | G21G4/06 | 分类号: | G21G4/06 |
代理公司: | 北京中济纬天专利代理有限公司 11429 | 代理人: | 杨乐 |
地址: | 102413*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 放射源 碳酸盐粉末 制备 悬浊液 放射源载体 镀铝PET 吸附膜 有机膜 源片 薄膜 碳酸盐 制备技术领域 放射性核素 均匀涂抹 有机溶剂 密封膜 碳元素 自吸收 壳体 封装 晃动 密封 射线 | ||
1.一种放射源,其特征在于:
所述放射源包括源片和放射源壳体;
所述源片包括有机膜、镀铝PET薄膜及放射源载体,所述放射源载体密封于有机膜和镀铝PET薄膜之间;所述放射源载体包括吸附膜和吸附膜上涂设的碳酸盐粉末悬浊液,其中碳酸盐粉末悬浊液中的碳元素为碳14;
所述放射源壳体包括安装台和外壳;所述安装台的一端设置有安装面;所述外壳包括内腔,所述外壳的一端设置有所述内腔朝向所述外壳外部的开口,所述外壳的另一端设置有发射窗;
所述源片的有机膜侧通过胶黏剂粘接在所述安装台的安装面上;所述安装台和外壳通过螺纹连接,且所述安装台安装的源片的镀铝PET薄膜一侧朝向所述发射窗。
2.根据权利要求1所述的放射源,其特征在于:
所述放射源中β粒子的放射性活度为10~250μCi。
3.根据权利要求2所述的放射源,其特征在于:
所述放射源的外部直径为10~30毫米,且所述放射源的厚度为2~7mm;
所述源片的直径为6~25mm;
所述镀铝PET薄膜的厚度为10~15μm。
4.一种放射源的制备方法,其特征在于:
所述放射源制备所用的原料包括有机溶剂和碳酸盐粉末;
在有机溶剂中加入碳酸盐粉末,搅拌后得到分布均匀的碳酸盐粉末悬浊液,其中碳酸盐中的碳元素为碳14;
取预定体积的所述碳酸盐粉末悬浊液和至少一吸附膜,并将所取预定体积的碳酸盐粉末悬浊液均匀涂抹到所述吸附膜上,以形成放射源载体;
取至少一有机膜与镀铝PET薄膜,将所述放射源载体密封在有机膜与镀铝PET薄膜之间,以形成源片;
取至少一放射源壳体,将所述源片封装于所述放射源外壳中,即形成所述放射源。
5.根据权利要求4所述的制备方法,其特征在于:
所述取预定体积的所述碳酸盐粉末悬浊液中所述预定体积的确定方法包括:
获取待制备的所述放射源中β粒子的预定放射性活度;
取一定量的所述碳酸盐粉末悬浊液,测量所述一定量的碳酸盐粉末悬浊液中β粒子的放射性活度;
根据所述一定量的碳酸盐粉末悬浊液的体积和所述一定量的碳酸盐粉末悬浊液中β粒子的放射性活度计算出单位体积的碳酸盐粉末悬浊液中β粒子的放射性活度;
根据所述放射源中β粒子的预定放射性活度和单位体积的碳酸盐粉末悬浊液中β粒子的放射性活度计算碳酸盐粉末悬浊液的预定体积。
6.根据权利要求4所述的制备方法,其特征在于:
将所述源片封装于所述放射源外壳中之前,还包括对所述源片进行放射性活度测量及污染和泄漏检验;
将检验合格的所述源片封装于所述源外壳中,以形成所述放射源。
7.根据权利要求4所述的制备方法,其特征在于:
在有机溶剂中加入碳酸盐粉末时,还加入研磨介质,以通过搅拌将碳酸盐粉末研磨至满足预定的粒度大小;
所述研磨介质包括直径为1~3毫米的二氧化锆磨球。
8.根据权利要求4所述的制备方法,其特征在于,所诉制备方法中所用的仪器包括:
磁力搅拌器,所述磁力搅拌器用于盛放包括有机溶剂及碳酸盐粉末在内的原料,并具有搅拌功能;
和/或可调移液器,所述可调移液器用于碳酸盐粉末悬浊液的取用和转移。
9.根据权利要求4所述的制备方法,其特征在于:
所述制备方法所用的放射源原料还包括研磨介质二氧化锆磨球,所述二氧化锆磨球的直径为1~3毫米,所述二氧化锆磨球的数量为5~20个;
所述碳酸盐为碳酸钡,所述碳酸钡中β粒子的放射性活度为1~100mCi;
所述有机溶剂为丙酮,丙酮的体积为0.5~3毫升;
在磁力搅拌器中放入所述放射源原料,将磁力搅拌器的转速设定为每分钟300~500转,并将所述放射源原料搅拌20~40分钟。
10.根据权利要求4所述的制备方法,其特征在于:
待制备的所述放射源中β粒子的预定放射性活度为100μCi时,所用的放射源原料包括:β粒子的放射性活度为20mCi的碳酸钡、2毫升的丙酮、10个直径为1毫米的二氧化锆磨球、5个直径为3毫米的二氧化锆磨球;
在磁力搅拌器中放入所述放射源原料,将磁力搅拌器的转速设定为每分钟350转,并将所述放射源原料搅拌30分钟。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于原子高科股份有限公司,未经原子高科股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910264531.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。