[发明专利]潜望式摄像模组及多摄模组有效
申请号: | 201910266469.2 | 申请日: | 2019-04-03 |
公开(公告)号: | CN111787190B | 公开(公告)日: | 2021-11-19 |
发明(设计)人: | 姚立锋;陈振宇 | 申请(专利权)人: | 宁波舜宇光电信息有限公司 |
主分类号: | H04N5/225 | 分类号: | H04N5/225;H04N5/232 |
代理公司: | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 | 代理人: | 王达佐;王艳春 |
地址: | 315400 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 潜望式 摄像 模组 | ||
1.潜望式摄像模组,包括:
光路折转元件,具有反射构件,用于将沿第一光轴传播的入射光折转到沿第二光轴传播,其中,所述第一光轴和所述第二光轴成角度;
光学镜头组件,其沿所述第二光轴布置以接收被所述光路折转元件折转的入射光;
感光组件,其沿所述第二光轴布置并接收通过所述光学镜头组件的入射光,从而通过所述光学镜头组件的入射光在所述感光组件上成像;
其特征在于,所述光路折转元件还具有防抖致动机构,所述防抖致动机构包括垂直梳状驱动结构,所述垂直梳状驱动结构包括上梳状指状物和下梳状指状物;
所述光路折转元件还包括支承框架,所述反射构件与所述支承框架连接,在所述上梳状指状物与所述下梳状指状物之间的静电力的驱动下,使所述反射构件相对于所述支承框架围绕所述反射构件的横向和/或纵向方向的中心轴转动,以补偿所述入射光在所述感光组件上成像时由于抖动而发生的位置变化。
2.根据权利要求1所述的潜望式摄像模组,其特征在于,所述反射构件为平面反射镜。
3.根据权利要求1所述的潜望式摄像模组,其特征在于,所述防抖致动机构为MEMS驱动机构。
4.根据权利要求1所述的潜望式摄像模组,其特征在于,所述第一光轴和所述第二光轴垂直。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的潜望式摄像模组,其特征在于,所述潜望式摄像模组还包括:
传感器,用于检测所述潜望式摄像模组由于抖动而产生的位移;
处理器,用于根据所述传感器的检测结果确定出用于补偿所述位移的补偿量;
其中,所述防抖致动机构根据所述补偿量驱动所述反射构件转动,以补偿所述入射光在所述感光组件上成像时由于抖动而发生的位置变化。
6.根据权利要求5所述的潜望式摄像模组,其特征在于,所述传感器包括加速度计、陀螺仪和磁力计中的至少之一。
7.根据权利要求5所述的潜望式摄像模组,其特征在于,所述潜望式摄像模组由于受到抖动而使得入射光在所述感光组件上所成的像产生偏移量,所述防抖致动机构响应于所述补偿量驱动所述反射构件绕至少一个轴转动,以补偿所述入射光在所述感光组件上产生的偏移量。
8.根据权利要求7所述的潜望式摄像模组,其特征在于,所述至少一个轴包括第一轴和与所述第一轴垂直的第二轴。
9.根据权利要求5所述的潜望式摄像模组,其特征在于,所述光路折转元件还包括基底,所述防抖致动机构与所述反射构件形成在所述基底上。
10.根据权利要求9所述的潜望式摄像模组,其特征在于,所述基底包括依次层叠的第一硅层、氧化硅层和第二硅层。
11.根据权利要求10所述的潜望式摄像模组,其特征在于,
所述反射构件通过蚀刻所述第一硅层并在其表面涂覆光学反射涂层制成;以及
其中,通过蚀刻所述第一硅层形成所述上梳状指状物并通过蚀刻所述第二硅层形成所述下梳状指状物。
12.根据权利要求11所述的潜望式摄像模组,其特征在于,所述反射构件通过铰链结构与所述支承框架连接,在所述上梳状指状物与所述下梳状指状物之间的静电力的驱动下,使所述反射构件相对于所述支承框架围绕第一轴转动。
13.根据权利要求11所述的潜望式摄像模组,其特征在于,所述反射构件通过铰链结构与所述支承框架连接,在所述上梳状指状物与所述下梳状指状物之间的静电力的驱动下,所述反射构件在所述支承框架的带动下围绕第二轴转动。
14.根据权利要求11所述的潜望式摄像模组,其特征在于,所述光路折转元件还包括与所述上梳状指状物连接的第一电极和与所述下梳状指状物连接的第二电极。
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