[发明专利]一种防蓝光膜及其显示器件

权利要求书

1.一种防蓝光膜，其特征在于，包括：

二氧化硅基底；

金属纳米颗粒结构，设置于所述二氧化硅基底上，并采用直径范围为30-80纳米粒径均匀的金属纳米颗粒组成；

石墨烯层，覆盖于所述金属纳米颗粒结构上；

透明保护层，设置于所述石墨烯层上面；

其中所述金属纳米颗粒结构在所述石墨烯层中，受到光激发产生局域等离子体共振，从而增强所述石墨烯层对波长为330-450nm的高能量短波的吸收。

2.根据权利要求1所述的防蓝光膜，其特征在于，所述金属纳米颗粒采用的金属包括Au和/或Ag中的一种。

3.根据权利要求1所述的防蓝光膜，其特征在于，所述透明保护层厚度范围为50-200纳米。

4.一种防蓝光膜的制备方法，其特征在于，包括：

步骤S1，提供二氧化硅基底；

步骤S2，将金属纳米颗粒和嵌段共聚物共同分散于一甲苯溶剂中，将分散好的甲苯溶剂旋涂于步骤S1中所述二氧化硅基底上，烘干所述分散好的甲苯溶剂形成膜层，通过等离子体刻蚀的方法刻蚀所述的膜层，去除所述的膜层中的嵌段共聚物，在步骤S1中所述的二氧化硅基底上形成金属纳米颗粒结构；

步骤S3，通过化学气相沉积的方式在步骤S2中所述的金属纳米颗粒结构上制备石墨烯层；

步骤S4，在步骤S3所述的石墨烯层表面旋涂聚甲基丙烯酸甲酯溶液形成透明保护层；

步骤S5，烘干所述透明保护层形成防蓝光膜。

5.根据权利要求4所述的防蓝光膜的制备方法，其特征在于，所述嵌段共聚物为聚(苯乙烯)-b-聚(2-乙烯基吡啶)；所述等离子体刻蚀采用H₂以及Ar中的至少一种。

6.一种显示器件，其特征在于，包括：根据权利要求1所述的防蓝光膜。

7.根据权利要求6所述的一种显示器件，其特征在于，其还包括：

外框，

反射板，所述反射板设置于所述外框内；

发光二极管，所述发光二极管设置于所述反射板上；

扩散板，所述扩散板设置于所述发光二极管上；

扩散片，所述扩散片设置于所述扩散板上；

增亮膜，所述增亮膜设置于所述扩散片上；以及

液晶屏，所述液晶屏设置于所述增亮膜上；

其中所述防蓝光膜设置于所述液晶屏上。

8.根据权利要求6所述的一种显示器件，其特征在于，其还包括：

外框，

反射板，所述反射板设置于所述外框内；

发光二极管，所述发光二极管设置于所述反射板上；

扩散板，所述扩散板设置于所述发光二极管上；

扩散片，所述扩散片设置于所述扩散板上；

增亮膜，所述增亮膜设置于所述扩散片上；以及

液晶屏，所述液晶屏设置于所述增亮膜上；

其中所述防蓝光膜设置于所述增亮膜与所述液晶屏之间。

9.根据权利要求6所述的一种显示器件，其特征在于，其还包括：外框，

反射板，所述反射板设置于所述外框内；

发光二极管，所述发光二极管设置于所述反射板上；

扩散板，所述扩散板设置于所述发光二极管上；

扩散片，所述扩散片设置于所述扩散板上；

增亮膜，所述增亮膜设置于所述扩散片上；以及

液晶屏，所述液晶屏设置于所述增亮膜上；

其中所述防蓝光膜设置于所述发光二极管与所述扩散板之间。

10.根据权利要求6所述的一种显示器件，其特征在于，其还包括：外框，

反射板，所述反射板设置于所述外框内；

发光二极管，所述发光二极管设置于所述外框的一侧。

扩散板，所述扩散板设置于所述外框上；

扩散片，所述扩散片设置于所述扩散板上；

增亮膜，所述增亮膜设置于所述扩散片上；以及

液晶屏，所述液晶屏设置于所述增亮膜上；

其中所述防蓝光膜设置于所述发光二极管的侧面。