[发明专利]电子设备壳体及其制备方法和电子设备

权利要求书

1.一种电子设备壳体，其特征在于，包括：

基材；

光学镀膜层，所述光学镀膜层设置在所述基材的一侧；及

金属功能层，所述金属功能层设置在所述光学镀膜层远离所述基材的表面上，所述金属功能层的材料为铟、锡或铟锡合金。

2.根据权利要求1所述的壳体，其特征在于，所述金属功能层的反射率为30％～80％。

3.根据权利要求1所述的壳体，其特征在于，所述金属功能层的厚度小于40nm。

4.根据权利要求1所述的壳体，其特征在于，所述光学镀膜层包括层叠设置的第一氧化物膜层、第二氧化物膜层和第三氧化物膜层，所述第一氧化物膜层靠近所述基材设置，所述第一氧化物膜层的折射率和所述第三氧化物膜层的折射率均大于所述第二氧化物膜层的折射率。

5.根据权利要求4所述的壳体，其特征在于，所述第一氧化物膜层和第三氧化物膜层的材料分别包括二氧化钛、五氧化三钛、五氧化二铌和氧化锆中的至少一种，所述第二氧化物膜层的材料包括二氧化硅。

6.根据权利要求4所述的壳体，其特征在于，所述光学镀膜层的厚度为120nm～220nm。

7.根据权利要求1所述的壳体，其特征在于，还包括：

保护层，所述保护层设置在所述金属功能层远离所述基材的表面上。

8.根据权利要求7所述的壳体，其特征在于，所述保护层的材料包括硅和五氧化二铌中的至少一种。

9.根据权利要求7所述的壳体，其特征在于，所述光学镀膜层、所述金属功能层和所述保护层的厚度之和为150nm～250nm。

10.根据权利要求1所述的壳体，其特征在于，所述基材的材料包括透明塑胶膜片、玻璃、复合板材、聚对苯二甲酸乙二醇酯膜片和热塑性聚氨酯弹性体橡胶膜片中的至少一种。

11.一种制备壳体的方法，其特征在于，包括：

通过磁控溅射或蒸发镀的方法在基材的一侧形成光学镀膜层；及

通过所述磁控溅射或所述蒸发镀的方法在所述光学镀膜层远离所述基材的表面上形成金属功能层，所述金属功能层的材料为铟、锡或铟锡合金。

12.根据权利要求11所述的方法，其特征在于，所述光学镀膜层包括层叠设置的第一氧化物膜层、第二氧化物膜层和第三氧化物膜层，当所述第一氧化物膜层和所述第三氧化物膜层的材料为五氧化二铌时，通过所述磁控溅射方法形成所述光学镀膜层，当所述第一氧化物膜层和所述第三氧化物膜层的材料为二氧化钛和五氧化三钛中的至少一种时，通过所述蒸发镀的方法形成所述光学镀膜层。

13.根据权利要求11所述的方法，其特征在于，还包括：

通过所述磁控溅射或所述蒸发镀的方法在所述金属功能层远离所述基材的表面上形成保护层。

14.一种电子设备，其特征在于，包括：

壳体，所述壳体中具有容纳空间；及

显示屏，所述显示屏设置在所述容纳空间中，且所述显示屏的出光面朝向远离所述壳体的一侧；

其中，所述壳体包括：

基材；

光学镀膜层，所述光学镀膜层设置在所述基材的一侧；及

金属功能层，所述金属功能层设置在所述光学镀膜层远离所述基材的表面上，所述金属功能层的材料为铟、锡或铟锡合金。