[发明专利]一种沉淀池集水槽清洗装置

权利要求书

1.一种沉淀池集水槽清洗装置，沉淀池两侧固定有相互平行的轨道，每个所述轨道上设有位移机构，两个所述位移机构上横跨有桁架，沿所述桁架的一侧设有行走架和行走齿条，清洗机构的背板上安装有沿行走架滑动的行走轮，所述背板上固定有行走电机，所述行走电机的驱动行走齿轮旋转，所述行走齿轮与行走齿条啮合，其特征在于：所述行走架设有两根分别为上行走架和下行走架，安装在上行走架上的行走轮由三个轮子构成，包括两个夹持上行走架两侧的上夹持轮，以及位于上行走架上部的上滑动轮，安装在下行走架上的行走轮也由三个轮子构成，包括两个夹持下行走架两侧的下夹持轮，以及位于下行走架下部的下滑动轮。

2.根据权利要求1所述的沉淀池集水槽清洗装置，其特征在于：所述行走轮的轮子均通过轮轴固定在背板的轮架上，所述上滑动轮、下滑动轮、上夹持轮其中一个轮子、以及下夹持轮其中一个轮子均采用弹性固定结构固定在轮架上，所述弹性固定结构包括设置在轮架上的滑槽、安装在滑槽上的滑块、施力方向与滑槽延伸方向一致的支撑弹簧，所述支撑弹簧一端固接在轮架上，另一端固接在滑块上，所述轮子通过轮轴固定在滑块上，所述支撑弹簧向滑块施加压力使轮子压紧行走架。

3.根据权利要求2所述的沉淀池集水槽清洗装置，其特征在于：所述行走齿条位于两根所述行走架之间，所述行走齿条和行走架相互平行，所述背板上固定有夹紧轮，所述夹紧轮配合行走齿轮夹持行走齿条。

4.根据权利要求1、2或3所述的沉淀池集水槽清洗装置，其特征在于：所述背板上固定有至少一个水平设置的滑轨，每个所述滑轨上安装有个两个移动块，两个间距调节板固定在独立的移动块上，每个所述间距调节板的顶端或底端固定有水平设置的间距调节齿条，所述背板上固定有两个间距调节电机，每个所述间距调节电机上安装有与其中一个间距调节齿条啮合的间距调节齿轮，所述背板上安装有感应间距调节板位置的行程开关。

5.根据权利要求4所述的沉淀池集水槽清洗装置，其特征在于：每个所述间距调节板上固定有安装支架，所述安装支架上固定有升降机构，所述升降机构包括竖直方向固定的两个链轮和安装在链轮上的链条，所述链条上固定有随链条位移的安装板，所述安装板上固定有旋转机构，所述旋转机构包括清洁电机、与清洁电机联接的旋转轴，所述旋转轴的末端设有用于清洁集水槽的毛刷。

6.根据权利要求5所述的沉淀池集水槽清洗装置，其特征在于：每个所述间距调节电机的输出轴与间距调节齿轮相连，所述间距调节齿轮与间距调节齿条相连，所述间距调节齿条安装在间距微调板上，所述间距微调板安装在间距微调移动块上，所述间距微调移动块安装在间距调节板上，所述间距微调板与间距调节板之间通过扭力传感器连接。

7.根据权利要求1或6所述的沉淀池集水槽清洗装置，其特征在于：所述位移机构包括沿轨道行走的主动轮和从动轮，所述主动轮由位移电机驱动旋转，所述从动轮设有感应从动轮旋转信息的编码器。

8.根据权利要求7所述的沉淀池集水槽清洗装置，其特征在于：所述主动轮设有感应主动轮旋转信息的编码器。