[发明专利]清洗液供给系统、基板处理装置以及基板处理系统

说明书

本发明提供一种能够向基板清洗装置恰当地供给清洗液或者维护保养性提高的清洗液供给系统、具备这样的清洗液供给系统的基板处理装置、以及具备这样的基板处理装置的基板处理系统。本发明提供一种清洗液供给系统，该清洗液供给系统具备：循环线路，该循环线路的一端与清洗液供给装置的供给口连接，另一端与所述清洗液供给装置的回收口连接，清洗液在该循环线路的内部流动；分支管，该分支管从所述循环线路分支，并且与基板清洗单元连接；阀，该阀设置于所述分支管，并且对从所述循环线路向所述基板清洗单元的清洗液供给进行控制；以及流量调节构件，该流量调节构件对在所述循环线路中流动的清洗液的流量进行调节。

技术领域

本发明涉及一种向基板清洗单元供给清洗液的清洗液供给系统、具备这样的清洗液供给系统的基板处理装置、以及具备这样的基板处理装置的基板处理系统。

背景技术

广泛已知的是一边供给清洗液一边清洗基板。例如，在专利文献1中，从一个清洗液供给源向多个基板清洗装置供给清洗液。

在这样的方式的情况下，存在无法向基板清洗装置恰当地供给清洗液、或维护保养困难的问题。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2014-39064号公报

发明内容

发明所要解决的课题

本发明是鉴于上述问题而做出的，本发明的课题在于，提供能够向基板清洗装置恰当地供给清洗液、或者维护保养性提高的清洗液供给系统、具备这样的清洗液供给系统的基板处理装置、以及具备这样的基板处理装置的基板处理系统。

解决问题的手段

根据本发明的一方式，提供一种清洗液供给系统，该清洗液供给系统具备：循环线路，该循环线路的一端与清洗液供给装置的供给口连接，另一端与所述清洗液供给装置的回收口连接，清洗液在该循环线路的内部流动；分支管，该分支管从所述循环线路分支，并且与基板清洗单元连接；阀，该阀设置于所述分支管，并且对从所述循环线路向所述基板清洗单元的清洗液供给进行控制；以及流量调节构件，该流量调节构件对在所述循环线路中流动的清洗液的流量进行调节。

优选的是，所述流量调节构件减少在所述循环线路中流动的清洗液的流量，以使得即使在所述阀打开的情况下也能抑制所述循环线路内的压力下降。

优选的是，具备压力计，该压力计对所述循环线路内的压力进行测量，所述流量调节构件基于所述循环线路内的压力，对在所述循环线路中流动的清洗液的流量进行调节。

优选的是，所述流量调节构件是设置于所述循环线路的电动流量调节阀。

根据本发明的另外的方式，提供一种清洗液供给系统，该清洗液供给系统具备：循环线路，该循环线路的一端与清洗液供给装置的供给口连接，另一端与所述清洗液供给装置的回收口连接，清洗液在该循环线路的内部流动；分支管，该分支管从所述循环线路分支并且与基板清洗单元连接；氮气供给源，该氮气供给源向所述分支管供给氮气；液体供给源，该液体供给源向所述分支管供给与所述清洗液反应的液体；以及阀，该阀设置于所述分支管，并且对从所述循环线路向所述基板清洗单元的清洗液供给进行控制，在不从所述循环线路向所述基板清洗单元供给所述清洗液的状态下，所述阀使得：所述氮气能够从所述氮气供给源向所述基板清洗单元供给，并且所述液体能够从所述液体供给源向所述基板清洗单元供给。

优选的是，从所述循环线路分支并且被供给氮气的分支管在所述基板清洗单元中与向下的喷嘴连接。

优选的是，具备控制部，该控制部对所述阀、所述氮气供给源以及所述液体供给源进行控制，以使得：在成为不从所述循环线路向所述基板清洗单元供给所述清洗液的状态之后，从所述氮气供给源向所述基板清洗单元供给所述氮气，之后，从所述液体供给源向所述基板清洗单元供给所述液体。