[发明专利]蚀刻液组合物有效
| 申请号： | 201910275642.5 | 申请日： | 2019-04-08 |
| 公开（公告）号： | CN110042393B | 公开（公告）日： | 2020-11-24 |
| 发明（设计）人： | 孟小欢;苗新民 | 申请（专利权）人： | 绍兴明煌科技有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/18 | 分类号： | C23F1/18;C23F1/26 |
| 代理公司： | 绍兴市寅越专利代理事务所(普通合伙) 33285 | 代理人： | 陈彩霞 |
| 地址： | 312030 浙江省*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 蚀刻 组合 | ||
【权利要求书】：
1.蚀刻液组合物，其特征在于：包括，以所述蚀刻液组合物的总重量计，
6-16wt%过硫酸盐；
2-6wt%硝酸；
0.3-3wt%磺酸化合物；
0.3-0.5wt%硝酸羟胺；
0.5-1.5wt%氨基葡萄糖酸；以及，
余量的水。
2.根据权利要求1所述的蚀刻液组合物，其特征在于：所述蚀刻液组合物用于蚀刻金属膜的铜膜和/或钛膜。
3.根据权利要求2所述的蚀刻液组合物的用途，其特征在于：所述铜膜为铜单一膜或铜合金膜。
4.根据权利要求2所述的蚀刻液组合物的用途，其特征在于：所述钛膜为钛单一膜或钛合金膜。
5.根据权利要求2或3或4所述的蚀刻液组合物的用途，其特征在于：所述金属膜为铜膜与钛膜交替层叠一次以上而成的多层膜。
6.根据权利要求1所述的蚀刻液组合物，其特征在于：所述过硫酸盐包含选自由过硫酸钾、过硫酸钠和过硫酸铵组成的组中的至少一种。
7.根据权利要求1所述的蚀刻液组合物，其特征在于：所述磺酸化合物是选自由苯磺酸、甲苯磺酸、甲磺酸、氨基磺酸、它们的盐、以及它们的混合物。
8.根据权利要求1所述的蚀刻液组合物，其特征在于：所述蚀刻液组合物包括，以所述蚀刻液组合物的总重量计，8-12wt%过硫酸盐；3-5wt%硝酸；1.5-2.0wt%磺酸化合物；0.3-0.5wt%硝酸羟胺；0.8-1.2wt%氨基葡萄糖酸；以及，余量的水。
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