[发明专利]蚀刻方法在审
| 申请号： | 201910275649.7 | 申请日： | 2019-04-08 |
| 公开（公告）号： | CN110167273A | 公开（公告）日： | 2019-08-23 |
| 发明（设计）人： | 孟小欢;苗新民 | 申请（专利权）人： | 沧州硕金生物科技有限公司 |
| 主分类号： | H05K3/06 | 分类号： | H05K3/06;C23F1/02;C23F1/18;C23F1/26 |
| 代理公司： | 北京国翰知识产权代理事务所(普通合伙) 11696 | 代理人： | 吕彩霞 |
| 地址： | 061000 河北省沧州市市*** | 国省代码： | 河北;13 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 蚀刻 抗蚀膜 基底 蚀刻液 金属布线图案 氨基葡萄糖 磺酸化合物 金属膜表面 蚀刻残留物 耐热性 过硫酸盐 图像轮廓 预定形状 金属膜 均匀性 可控的 无机酸 沉积 去除 涂覆 显影 移除 图案 侧面 曝光 清晰 | ||
1.蚀刻方法，其特征在于：包括：
S1步骤：在沉积在基底上的金属膜上涂覆抗蚀膜；
S2步骤：对完成所述S1步骤的基底进行曝光，去除显影部分的抗蚀膜，形成预定形状的抗蚀膜图案；
S3步骤：将完成所述S2步骤的基底用蚀刻液进行蚀刻，形成金属布线图案；
S4步骤：将完成所述S3步骤的基底的金属膜表面上剩余的抗蚀膜移除；
所述S3步骤用蚀刻液包含过硫酸盐、无机酸、磺酸化合物和氨基葡萄糖酸。
2.根据权利要求1所述的蚀刻方法，其特征在于：所述蚀刻液中含有0.5-1.5wt％氨基葡萄糖酸。
3.根据权利要求1或2所述的蚀刻方法，其特征在于：以所述S3步骤用蚀刻液的总重量计，所述蚀刻液包括8-12wt％过硫酸盐、3-5wt％硝酸、1.5-2.0wt％磺酸化合物、0.3-0.5wt％硝酸羟胺、0.8-1.2wt％氨基葡萄糖酸、余量的水。
4.根据权利要求3所述的蚀刻方法，其特征在于：所述过硫酸盐选自过硫酸钠、过硫酸钾、过硫酸铵中的至少一种。
5.根据权利要求3或4所述的蚀刻方法，其特征在于：所述磺酸化合物是选自由苯磺酸、甲苯磺酸、甲磺酸、氨基磺酸、它们的盐、以及它们的混合物。
6.根据权利要求2所述的蚀刻方法，其特征在于：所述S1步骤中抗蚀膜是具有光致抗蚀剂组合物的积层构造，所述光致抗蚀剂组合物含有树脂、酸生成剂、增塑剂及溶剂；
所述树脂包含由式(I)表示的结构单元：
7.根据权利要求6所述的蚀刻方法，其特征在于：所述增塑剂是选自由以下各项组成的组中的一种：邻苯二甲酸酯、脂族烃羧酸酯和芳香族磺酰胺。
8.根据权利要求6或7所述的蚀刻方法，其特征在于：以所述光致抗蚀剂组合物的总重量计，所述光致抗蚀剂组合物含有，32-43wt％树脂、10-14wt％酸生成剂、1.1-1.8wt％增塑剂及15-20wt％溶剂。
9.根据权利要求1所述的蚀刻方法，其特征在于：所述S3步骤中蚀刻温度为48-68℃。
10.根据权利要求1所述的蚀刻方法，其特征在于：所述S3步骤中蚀刻的时长为50-120s。
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