[发明专利]基于多层石墨烯纹身式无衬底电极制备方法及装置在审
申请号: | 201910277114.3 | 申请日: | 2019-04-08 |
公开(公告)号: | CN110074758A | 公开(公告)日: | 2019-08-02 |
发明(设计)人: | 任天令;伍晓明;乔彦聪 | 申请(专利权)人: | 清华大学 |
主分类号: | A61B5/00 | 分类号: | A61B5/00;A61B5/04;A61B5/0408;A61B5/0478;A61B5/0492 |
代理公司: | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 张润 |
地址: | 10008*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 纹身 石墨烯氧化物溶液 石墨烯氧化物 衬底电极 电极 衬底 薄膜 制备方法及装置 多层石墨烯 石墨烯 肌电 脑电 心电 还原 传统柔性 电极图案 实时观测 衬底层 通用的 滴加 挥发 阻抗 配制 剥离 激光 皮肤 | ||
1.一种基于多层石墨烯纹身式无衬底电极制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
配制石墨烯氧化物溶液;
将所述石墨烯氧化物溶液滴加到纹身衬底上,以使所述石墨烯氧化物溶液在所述纹身衬底挥发后形成石墨烯氧化物薄膜;
通过激光还原所述石墨烯氧化物薄膜,形成石墨烯电极图案;以及
通过水溶液剥离未还原的石墨烯氧化物薄膜,并去掉所述纹身衬底,生成纹身式无衬底电极。
2.根据权利要求1所述的基于多层石墨烯纹身式无衬底电极制作方法,其特征在于,所述纹身衬底包括支撑层、牺牲层和衬底层。
3.根据权利要求2所述的,其特征在于,在所述石墨烯氧化物溶液滴加在所述衬底层上之后,还包括:
通过所述牺牲层遇水溶解,将所述支撑层和所述衬底层分开。
4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述通过激光还原所述石墨烯氧化物薄膜,进一步包括:
将预设图案输入激光直写平台,并通过所述激光将所述预设图案书写到所述石墨烯氧化物薄膜上,并在激光照射位置形成石墨烯。
5.一种基于多层石墨烯纹身式无衬底电极制备装置,其特征在于,包括:
配制模块,用于配制石墨烯氧化物溶液;
处理模块,用于将所述石墨烯氧化物溶液滴加到纹身衬底上,以使所述石墨烯氧化物溶液在所述纹身衬底挥发后形成石墨烯氧化物薄膜;
还原模块,用于通过激光还原所述石墨烯氧化物薄膜,形成石墨烯电极图案;以及
生成模块,用于通过水溶液剥离未还原的石墨烯氧化物薄膜,并去掉所述纹身衬底,生成纹身式无衬底电极。
6.根据权利要求5所述的装置,其特征在于,还包括:
检测模块,用于将所述纹身式无衬底电极移至目标部位上,获取目标部位的检测信号;
信号处理模块,用于接收并放大所述检测信号;以及
信号显示模块,用于显示所述检测信号。
7.根据权利要求6所述的装置,其特征在于,所述信号显示模块包括:
无线传输单元,用于通过无线传输将所述检测信号发送至移动终端。
8.根据权利要求5所述的装置,其特征在于,所述处理模块还用于通过所述牺牲层遇水溶解,将所述支撑层和所述衬底层分开,石墨烯层与所述衬底层分开形成全石墨烯结构。
9.根据权利要求5所述的装置,其特征在于,所述还原模块包括:
输入单元,用于将预设图案输入激光的直写平台;
书写单元,用于通过所述激光将所述预设图案书写到所述石墨烯氧化物薄膜上,并在激光照射位置形成石墨烯。
10.根据权利要求5-9任一项所述的装置,其特征在于,所述纹身衬底包括支撑层、牺牲层和衬底层。
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