[发明专利]化学气相沉积装置维护保养方法

权利要求书

1.一种化学气相沉积装置维护保养方法，其特征在于，包括：

步骤S10：通过气体吹扫，筛选符合测试要求的扩散器；

步骤S20：设定检测规格的预设值，通过微粒测量仪对所述扩散器进行微粒检测；

步骤S30：将所述扩散器装配到化学气相沉积装置，进行试验生产；以及

步骤S40：所述化学气相沉积装置进行正式生产，并持续对所述化学气相沉积装置进行微粒检测。

2.如权利要求1所述的化学气相沉积装置维护保养方法，其特征在于，所述步骤S10中，对于不符合测试要求的所述扩散器进行返厂维护。

3.如权利要求1所述的化学气相沉积装置维护保养方法，其特征在于，所述步骤S20中，在进行所述微粒检测之前，对所述扩散器进行第二次气体吹扫。

4.如权利要求3所述的化学气相沉积装置维护保养方法，其特征在于，所述第二次气体吹扫的时间为1小时。

5.如权利要求1所述的化学气相沉积装置维护保养方法，其特征在于，所述步骤S20中，若测量结果在所述预设值范围之外，判定当前的维护保养失败，将所述测量结果汇整，修正所述预设值，并将所述扩散器返厂维护。

6.如权利要求1所述的化学气相沉积装置维护保养方法，其特征在于，所述步骤S40中，持续对所述化学气相沉积装置进行微粒检测的时间为3天。

7.如权利要求6所述的化学气相沉积装置维护保养方法，其特征在于，所述步骤S40中，若持续检测的测量结果在所述预设值范围之内，判定当前的维护保养成功。

8.如权利要求7所述的化学气相沉积装置维护保养方法，其特征在于，所述步骤S40中，若持续检测的测量结果在所述预设值范围之外，判定当前的维护保养失败，将所述测量结果汇整，并修正维护保养规范。

9.如权利要求1所述的化学气相沉积装置维护保养方法，其特征在于，所述预设值包括所述微粒的直径以及单位空间内的微粒数量。

10.如权利要求9所述的化学气相沉积装置维护保养方法，其特征在于，所述单位空间内直径D₁＝0.5μm的所述微粒的数量为N₁，所述单位空间内直径D₂＝1μm的所述微粒的数量为N₂，(N₁+N₂)/2≤20；所述单位空间内直径为D₃＝3μm的所述微粒的数量为N₃，所述单位空间内直径为D₄＝5μm的所述微粒的数量为N₄，(N₃+N₄)/2≤5；所述单位空间内直径为D₅＝10μm的所述微粒的数量N₅≤2。