[发明专利]一种薄膜晶硅钙钛矿异质结太阳电池及其制备方法在审
申请号: | 201910279990.X | 申请日: | 2019-04-08 |
公开(公告)号: | CN111799376A | 公开(公告)日: | 2020-10-20 |
发明(设计)人: | 田汉民;常卫洪;方国川 | 申请(专利权)人: | 河北工业大学 |
主分类号: | H01L51/42 | 分类号: | H01L51/42;H01L51/44;H01L51/48 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 300401 天津市*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 薄膜 晶硅钙钛矿异质结 太阳电池 及其 制备 方法 | ||
1.一种钙钛矿异质结太阳电池,其特征在于:是一种具有电子阻挡层的钙钛矿异质结太阳电池,由透明导电基底、P型薄膜晶硅空穴传输层、电子阻挡结构层、钙钛矿光吸收层、致密二氧化钛构成的电子传输层和背电极构成,其中,电子阻挡结构层在P型晶硅薄膜层与钙钛矿光吸收层之间,由P型氧化镍薄膜构成;其组成顺序方式是:P型薄膜晶硅空穴传输层置于透明导电基底之上,电子阻挡结构层置于P型薄膜晶硅空穴传输层之上,钙钛矿光吸收层置于电子阻挡结构层之上,由致密二氧化钛构成的电子传输层置于钙钛矿光吸收层之上,背电极置于由致密二氧化钛构成的电子传输层之上,以上六个功能层依次叠加,构成此一种薄膜晶硅钙钛矿异质结太阳电池。
2.根据权利要求1所述一种钙钛矿异质结太阳电池,其特征在于:所述电子阻挡结构层的厚度为1nm~2000nm。
3.根据权利要求1所述一种钙钛矿异质结太阳电池,其特征在于:所述钙钛矿光吸收层所用的钙钛矿材料是CH3NH3PbI3或由CH3NH3PbI3、CH3NH3PbCl3、CH3NH3PbI2Cl和CH3NH3PbICl2混合构成,厚度为0.05~30um。
4.根据权利要求1所述一种钙钛矿异质结太阳电池,其特征在于:所述P型薄膜晶体硅层的厚度为10~2000nm。
5.根据权利要求1所述一种钙钛矿异质结太阳电池,其特征在于:所述透明导电基底为以玻璃为基底的AZO、ITO或FTO透明氧化物导电层。
6.根据权利要求1所述一种钙钛矿异质结太阳电池,其特征在于:所述背电极为铝、银或铜构成的薄层或栅线。
7.权利要求1所述一种薄钙钛矿异质结太阳电池的制备方法,其特征在于步骤如下:
在P型薄膜晶硅上制备电子阻挡结构层:
(7.1)制备电子阻挡结构层前驱液:将乙酸镍四水合物溶于2-甲氧基乙醇(C3H8O2)中,溶液中镍离子的浓度为0.1摩尔每升~2摩尔每升;在上述所得溶液中加入单乙醇胺(C2H7NO),单乙醇胺与上述所得溶液的体积比为1∶100-1∶10。将混合溶液在室温(约28℃)下搅拌8~12小时,进而获得电子阻挡结构层前驱液。
(7.2)喷涂电子阻挡结构层:通过业内通用的一般喷涂设备在第一步得到的整体的P型薄膜晶硅层上喷涂电子阻挡结构层前驱液,所喷涂的电子阻挡结构层前驱液在P型薄膜晶硅层上所构成的涂层厚度为0.5-5μm。将上述整体在120℃~175℃下退火10-50分钟。由此在钙钛矿光吸收层上喷涂得到电子阻挡结构层。
8.权利要求7所述一种钙钛矿异质结太阳电池的制备方法,其特征在于:所述透明导电基底为以玻璃为基底的AZO、ITO或FTO透明氧化物导电层。
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