[发明专利]转印物、层叠膜、片状转印物、其应用和使用其的设备

说明书

提供一种转印物、层叠膜、片状转印物、其应用和使用其的设备。所述转印物具备基材、以及转印于所述基材的表面的多个微小固体物质，所述微小固体物质的排列图案具有沿着所述基材的长度方向的周期性，所述微小固体物质的缺损率相对于所述微小固体物质的总数小于1％。

本申请是原申请的申请日为2015年10月28日、申请号为201580055670.6、发明名称为《压花膜、片状膜、转印物以及压花膜的制造方法》的中国专利申请的分案申请。

技术领域

本发明涉及压花膜、片状膜、转印物以及压花膜的制造方法。

背景技术

近年来，具有各种平面形状的凹凸结构的压花膜被开发和使用。

作为这样的压花膜的制作方法，例如可举出：使用压模原盘(原盤)，在片状的被转印膜上形成凹凸结构的方法。

具体而言，制作压模原盘，该压模原盘在平板状基板的表面(转印面)上形成了要形成于膜的凹凸结构的反向形状，将该压模原盘向被转印膜按压，从而将压模原盘的转印面的形状转印至被转印膜。通过将这样的转印反复实施，能够制作在片状的被转印膜的几乎全部区域形成有所希望的凹凸结构的压花膜。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2009-258751号公报

发明内容

发明所要解决的课题

然而，就使用上述压模原盘制作压花膜的方法而言，难以准确地控制压模原盘对于被转印膜的按压位置。因此存在如下问题：通过压模原盘的一次转印形成的凹凸结构的排列图案与通过下一次转印形成的凹凸结构的排列图案之间产生错位。

此外，就压模原盘而言，随着反复进行转印，压模原盘的凸部磨损、或者凹部被剥离的膜填埋的可能性变高。因此存在如下问题：制作的压花膜的面积越大，凹凸结构向被转印膜的转印性越下降，转印的凹凸结构的缺损频率越高。

另外，专利文献1中公开了如下方法：利用使用了圆筒或圆柱形原盘的辊对辊方式，制作具有可见光波长以下的周期的蛾眼结构的膜等。然而，专利文献1中公开的技术的目的是形成以可见光波长以下的周期形成的凹凸结构(例如，1μm以下)，因此并没有有助于解决上述问题。

因此，本发明鉴于上述问题而做出的，本发明的目的在于，提供被转印膜中的凹部的缺损频率更少、新型且改良的压花膜，将该压花膜切断而成的片状膜，利用该压花膜的转印物，以及该压花膜的制造方法。

用于解决课题的方法

为了解决上述课题，根据本发明的某一观点，提供一种压花膜，其具备膜主体和在上述膜主体的表面形成的多个凹部，上述凹部的开口面的直径大于可见光波长，上述凹部的排列图案具有沿着上述膜主体的长度方向的周期性，上述膜主体的一个端部中的凹部的缺损率与上述膜主体的另一个端部中的凹部的缺损率之差为10ppm以下。

上述凹部的缺损率可以基于上述排列图案的一个周期中的相同排列图案所对应的区域的凹部来算出。

上述膜主体可以为长膜。

形成于上述膜主体的上述凹部可以分别具有大致相同形状。

上述凹部的排列图案可以为格子形状。

上述凹部的数密度可以为50000000个/cm²以下。

上述膜主体在包括上述凹部内的表面的至少一部分具备由无机化合物形成的被覆层。

上述膜主体可以由固化性树脂或可塑性树脂形成。

此外，为了解决上述课题，根据本发明的另一个观点，提供一种片状膜，其是将上述记载的压花膜切断成多张而形成的。