[发明专利]具有对光束发散度的混合控制的X射线分析装置及方法

权利要求书

1.一种X射线分析装置，包括：

X射线源(4)，所述X射线源被配置成生成X射线；

样品台(8)，所述样品台被配置成支撑样品(6)，所述X射线源和所述样品台被布置成使得由所述X射线源生成的X射线限定照射所述样品的入射光束；

可调狭缝(210)，所述可调狭缝在所述X射线源和所述样品之间；

另一狭缝(220)，所述另一狭缝在所述X射线源和所述可调狭缝之间，或者在所述可调狭缝和所述样品之间；以及

控制器(17)，所述控制器被配置成控制所述可调狭缝的宽度，

其中，所述控制器被配置成在第一宽度、第二宽度和第三宽度之间改变所述可调狭缝的宽度，所述第三宽度大于所述第二宽度，所述第二宽度大于所述第一宽度，其中

在所述第一宽度下：所述可调狭缝将所述入射光束的发散度限制在第一发散角，从而限制所述样品的被照射区域，

在所述第二宽度下：所述可调狭缝将所述入射光束的发散度限制在第二发散角，从而限制所述样品的被照射区域，以及

在所述第三宽度下：所述可调狭缝不限制所述入射光束的发散度；以及

所述另一狭缝将所述入射光束的发散度限制在第三发散角，从而限制所述样品的被照射区域，

其中，所述第三发散角大于所述第二发散角，并且所述第二发散角大于所述第一发散角。

2.根据权利要求1所述的X射线分析装置，其中，所述另一狭缝(220)是不可调狭缝。

3.根据权利要求1所述的X射线分析装置，其中，所述另一狭缝是可调节的。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的X射线分析装置，还包括测角仪，其中，所述X射线源被安装到所述测角仪以便绕所述测角仪的轴可旋转，从而以一个范围内的不同入射角照射所述样品。

5.根据权利要求4所述的X射线分析装置，其中，所述控制器被配置成控制所述测角仪和所述可调狭缝，使得：

当所述测角仪被设置为第一入射角时，所述可调狭缝被设置为所述第一宽度；

当所述测角仪被设置为第二入射角时，所述可调狭缝被设置为所述第二宽度；以及

当所述测角仪被设置为第三入射角时，所述可调狭缝被设置为所述第三宽度，

所述第三入射角大于所述第二入射角，并且所述第二入射角大于所述第一入射角。

6.根据权利要求4或权利要求5所述的X射线分析装置，其中，所述控制器被配置成控制所述可调狭缝的宽度，使得在所述测角仪的入射角的范围内，所述入射光束照射所述样品的恒定区域。

7.根据任一前述权利要求所述的X射线分析装置，还包括X射线检测器(14)，所述X射线检测器被布置成接收来自所述样品(6)的X射线，并且被配置成产生测量接收到的X射线的强度的输出信号，

其中，所述控制器被配置成接收来自所述X射线检测器的输出信号，并且被配置成通过以下方式来归一化测量到的强度：

当所述可调狭缝被设置为所述第一宽度或所述第二宽度时，基于所述可调狭缝的宽度来执行第一归一化计算；以及

当所述可调狭缝被设置为所述第三宽度时，基于所述另一狭缝的宽度来执行第二归一化计算。

8.根据任一前述权利要求所述的X射线分析装置，其中，所述X射线分析装置被配置用于X射线荧光测量。

9.根据任一前述权利要求所述的X射线分析装置，其中，所述X射线分析装置是衍射仪。