[发明专利]一种结合馈源的微波真空窗设计方法

权利要求书

1.一种结合馈源的微波真空窗设计方法，其特征在于按下列步骤进行：

a、选取微波真空窗，将微波真空窗的参数作为优化变量，并给定这些参数的初始值，得到初始设计参数；

b、将步骤a选取的初始设计参数，对包含微波真空窗的馈源进行仿真分析，得到工作频带内馈源的性能参数为辐射方向图和电压驻波比；

c、将步骤b中得到的馈源的性能参数代入具体的反射面天线中进行仿真计算，得到反射面天线的辐射方向图，根据反射面天线的辐射方向图得出反射面天线的性能参数为增益、第一旁瓣电平和G/T值；

d、以反射面天线的性能参数作为评价函数，采用优化算法，对微波真空窗的部分或全部初始设计参数进行优化，得到使反射面天线性能达到最优的优化后的微波真空窗的参数，并将其作为微波真空窗的最终设计参数，从而完成微波真空窗的设计。

2.根据权利要求1所述一种结合馈源的微波真空窗设计方法，其特征在于步骤a中的微波真空窗的初始设计参数采用介质的力学性能，以保证其满足承压的要求。

3.根据权利要求1所述一种结合馈源的微波真空窗设计方法，其特征在于步骤a微波真空窗中对于多层结构初始设计参数包括每层介质的厚度、半径、相对介电常数和损耗正切角。

4.根据权利要求1所述一种结合馈源的微波真空窗设计方法，其特征在于步骤d中的优化算法为全局和局部优化算法。