[发明专利]低介电损耗负性光敏聚酰胺酸酯树脂、树脂组合物、其制备方法及应用在审
申请号: | 201910288615.1 | 申请日: | 2019-04-11 |
公开(公告)号: | CN110028670A | 公开(公告)日: | 2019-07-19 |
发明(设计)人: | 陈兴;刘洋 | 申请(专利权)人: | 明士新材料有限公司 |
主分类号: | C08G73/12 | 分类号: | C08G73/12;G03F7/004;G03F7/038;G03F7/16 |
代理公司: | 济南信达专利事务所有限公司 37100 | 代理人: | 罗文曌 |
地址: | 250204 山*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 低介电损耗 聚酰胺酸酯树脂 负性 光敏 树脂组合物 制备 含氟芳香族二胺 芳香族二酐 总二胺 二酐 含氟 与非 半导体制造领域 功能高分子材料 应用 分子量调节剂 聚酰亚胺薄膜 不饱和双键 低介电常数 低吸水率 热稳定性 热固化 醇类 显影 曝光 | ||
1.低介电损耗负性光敏聚酰胺酸酯树脂,其特征在于由总二酐、不饱和双键醇类、总二胺和分子量调节剂制备而成,所述总二酐由含氟芳香族二酐与非含氟芳香族二酐组成,总二酐中含氟芳香族二酐的摩尔百分含量为20-99%;所述总二胺由含氟芳香族二胺与非含氟芳香族二胺组成,总二胺中含氟芳香族二胺的摩尔百分含量为20-99%。
2.根据权利要求1所述的低介电损耗负性光敏聚酰胺酸酯树脂,其特征在于其制备方法包括以下步骤:
(1)将含氟芳香族二酐与含不饱和双键的醇类化合物反应生成含氟芳香族二酯二酸;
(2)将非含氟芳香族二酐与含不饱和双键的醇类化合物反应生成非含氟芳香族二酯二酸;
(3)将步骤(1)生成的含氟芳香族二酯二酸与步骤(2)生成的非含氟芳香族二酯二酸混合,然后与酰氯化试剂反应形成相应的混合二酯二酰氯;
(4)将含氟芳香族二胺与非含氟芳香族二胺依次加入有机溶剂中,搅拌使其溶解形成均相的混合二胺溶液;
(5)将步骤(3)中的混合二酯二酰氯、步骤(4)中的混合二胺溶液、分子量调节剂混合,进行缩聚反应生成聚酰胺酸酯树脂溶液;
(6)聚酰胺酸酯树脂溶液与不良溶剂混合,析出固体树脂;将固体树脂洗净、干燥后,得到低介电损耗负性光敏聚酰胺酸酯固体树脂。
3.根据权利要求1或2所述的低介电损耗负性光敏聚酰胺酸酯树脂,其特征在于所述含氟芳香族二酐包括6FDA、6FXDA、3FCDA、6FBPADA、6FPMDA、3FDAPA、6FDAPA和10FEDA中的一种化合物或两种及两种以上化合物的混合物,6FDA、6FXDA、3FCDA、6FBPADA、6FPMDA、3FDAPA、6FDAPA和10FEDA的结构式分别为:
4.根据权利要求1或2所述的低介电损耗负性光敏聚酰胺酸酯树脂,其特征在于所述非含氟芳香族二酐包括均苯四甲酸二酐、3,3',4,4'-联苯四羧酸二酐、2,3,3',4'-联苯四羧酸二酐、2,2’,3,3’-联苯四羧酸二酐、4,4'-氧双邻苯二甲酸酐、3,4'--氧双邻苯二甲酸酐、4,4'-对苯二氧双邻苯二甲酸酐、3,3',4,4'-二苯甲酮四酸二酐、2,2-双(3,4-二羧基苯基)丙烷二酐、2,2-双(2,3-二羧基苯基)丙烷二酐、1,1-双(3,4-二羧基苯基)乙烷二酐、1,1-双(2,3-二羧基苯基)乙烷二酐、3,3',4,4'-二苯基甲烷四酸二酐、2,2',3,3'-二苯基甲烷四酸二酐、3,3',4,4'-二苯基砜四酸二酐、萘-1,4,5,8-四甲酸二酐和3,4,9,10-苝四羧酸二酐中的一种化合物或两种及两种以上化合物的混合物。
5.根据权利要求1或2所述的低介电损耗负性光敏聚酰胺酸酯树脂,其特征在于所述所述的不饱和双键醇类包括甲基丙烯酸-2-羟乙酯、丙烯酸-2-羟乙酯、1-丙烯酰氧基-3-丙醇、2-丙烯酰胺乙醇、羟甲基乙烯基酮、2-羟基乙基乙烯基酮、2-羟基-3-甲氧基丙基丙烯酸酯、2-羟基-3-丁氧基丙基丙烯酸酯、2-羟基-3-苯氧基丙基丙烯酸酯、2-羟基-3-丁氧基丙基丙烯酸酯、2-羟基-3-叔丁氧基丙基丙烯酸酯、2-羟基-3环己氧基丙基丙烯酸酯、1-甲基丙烯酰氧基-3-丙醇、2-异丁烯酰胺乙醇、2-羟基-3-甲氧基丙基甲基丙烯酸酯、2-羟基-3-苯氧基丙基甲基丙烯酸酯、2-羟基-3-丁氧基丙基甲基丙烯酸酯、2-羟基-3-叔丁氧基丙基甲基丙烯酸酯和2-羟基-3-环己氧基丙基甲基丙烯酸酯中的一种化合物或两种及两种以上化合物的混合物。
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