[发明专利]用于渲染凹形效果的系统、方法和非暂时性存储介质

权利要求书

1.一种用于图像渲染的方法，包括通过计算系统：

确定在三维空间中的方位，其中，所述方位基于由虚拟现实设备生成的传感器数据；

基于确定的所述方位在所述三维空间中生成多个光线足迹；

对于所述多个光线足迹中的至少一个光线足迹：

识别要为所述光线足迹生成的对应数目的子样本；

基于所述对应数目的子样本生成所述光线足迹中的一个或多个坐标；以及

通过从所述一个或多个坐标中的每一个投影光线以测试与一个或多个物体的相交来确定在所述三维空间内定义的所述一个或多个物体的可见性；以及

基于确定的所述一个或多个物体的可见性来生成所述一个或多个物体的图像。

2.根据权利要求1所述的方法，还包括：

通过应用程序编程接口访问由应用程序指定的重要性图；

其中，所述重要性图包括分别对应于所述多个光线足迹的多个重要性值；并且

其中，基于由所述重要性图定义的所述多个重要性值中的第一重要性值来识别要为所述光线足迹生成的所述对应数目的子样本。

3.根据权利要求2所述的方法，

其中，所述多个重要性值存储在网格数据结构中；

其中，所述多个光线足迹分别对应于多个像素；并且

其中，所述光线足迹的所述对应数目的子样本的识别是基于在所述网格数据结构中的所述第一重要性值的相对位置和在所述多个像素中的所述光线足迹的对应像素的相对位置。

4.根据权利要求2所述的方法，还包括：

对于所述多个光线足迹中的第二光线足迹，基于由所述重要性图定义的所述多个重要性值中的第二重要性值来识别要为所述第二光线足迹生成的对应第二数目的子样本；

其中，对应于所述光线足迹的所述第一重要性值被定义为比对应于所述第二光线足迹的所述第二重要性值更重要。

5.根据权利要求4所述的方法，还包括：

基于所述对应第二数目的子样本来生成所述第二光线足迹中的一个或多个第二坐标；

其中，为所述光线足迹生成的所述一个或多个坐标的数目大于为所述第二光线足迹生成的所述一个或多个第二坐标的数目。

6.根据权利要求4所述的方法，其中，所述光线足迹与所述图像中的注视区域相关联，并且所述第二光线足迹与所述图像中的在所述注视区域之外的区域相关联。

7.根据权利要求1所述的方法，其中，所述多个光线足迹中的每一个由中心坐标和至少一个差值定义。

8.根据权利要求1所述的方法，其中，基于在焦面图的区域内定义的点的密度来识别要为所述光线足迹生成的子样本的数目。

9.一个或多个包含软件的计算机可读非暂时性存储介质，所述软件在被执行时能够操作以使一个或多个处理器执行操作，所述操作包括：

确定三维空间中的方位，其中，所述方位是基于由虚拟现实设备生成的传感器数据；

基于确定的所述方位在所述三维空间中生成多个光线足迹；

对于所述多个光线足迹中的至少一个光线足迹：

识别要为所述光线足迹生成的对应数目的子样本；

基于所述对应数目的子样本生成所述光线足迹中的一个或多个坐标；以及

通过从所述一个或多个坐标中的每一个投影光线以测试与一个或多个物体的相交来确定在所述三维空间内定义的所述一个或多个物体的可见性；以及

基于确定的所述一个或多个物体的可见性来生成所述一个或多个物体的图像。

10.根据权利要求9所述的介质，其中，所述软件在被执行时能够进一步操作以使所述一个或多个处理器执行操作，所述操作包括：

通过应用程序编程接口访问由应用程序指定的重要性图；

其中，所述重要性图包括分别对应于所述多个光线足迹的多个重要性值；并且

其中，基于由所述重要性图定义的所述多个重要性值中的第一重要性值来识别要为所述光线足迹生成的所述对应数目的子样本。