[发明专利]曝光机台对位标记调整优化方法

权利要求书

1.一种曝光机台对位标记调整优化方法，其特征在于，包括：

步骤S10：提供基板，所述基板上设有用于曝光机台抓取定位的对位标记；

步骤S20：选择需要调试的图像传感器，根据所述对位标记，设定所述图像传感器上相应的对位标记参数以及光源参数；

步骤S30：将所述图像传感器调整到目标光源，观察所述对位标记的变化，选取符合要求的所述目标光源；以及

步骤S40：对所述基板进行抓取测试，获取所述图像传感器抓取所述对位标记的准确率；当所述准确率小于预设准确率时，判定当前的所述光源参数调整失败，并重新调整所述光源参数，以将所述准确率调整至大于或等于所述预设准确率。

2.如权利要求1所述的曝光机台对位标记调整优化方法，其特征在于，所述对位标记的形状为十字形、矩形、菱形或圆形。

3.如权利要求1所述的曝光机台对位标记调整优化方法，其特征在于，所述对位标记为十字形、矩形、菱形以及圆形中两种或两种以上图形组合的复合图形。

4.如权利要求1所述的曝光机台对位标记调整优化方法，其特征在于，所述对位标记参数包括外框长度以及延长长度。

5.如权利要求1所述的曝光机台对位标记调整优化方法，其特征在于，所述目标光源包括：落射光源以及反射光源。

6.如权利要求5所述的曝光机台对位标记调整优化方法，其特征在于，所述反射光源包括红色反射光源、蓝色反射光源以及绿色反射光源。

7.如权利要求1所述的曝光机台对位标记调整优化方法，其特征在于，所述光源参数包括快门速度、开始亮度、所需亮度、最大亮度以及最小亮度。

8.如权利要求1所述的曝光机台对位标记调整优化方法，其特征在于，所述步骤S30中，选取符合要求的所述目标光源的方法包括透视抓取以及反射抓取。

9.如权利要求1所述的曝光机台对位标记调整优化方法，其特征在于，在测量所述图像传感器抓取所述对位标记的所述准确率之前，还包括：设定所述准确率的预设准确率范围。