[发明专利]光致抗蚀剂剥离剂

权利要求书

1.一种用于从衬底除去光致抗蚀剂的剥离剂溶液，其包含：

20重量％至80重量％的主要溶剂，其中所述主要溶剂是二乙二醇丁醚；

5重量％至50重量％的次要溶剂，其中所述次要溶剂选自3-甲基-3-甲氧基-1-丁醇和二乙二醇甲乙醚；

1重量％至3重量％的无机碱，其中所述无机碱包括氢氧化钾；

3重量％至20重量％的胺，其中所述胺包括单乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、二亚乙基三胺、三亚乙基四胺或2-(2-氨基乙氧基)乙醇，或其组合；

0.001重量％至1重量％的腐蚀抑制剂；和

0.1重量％至5重量％的水；

其中所述溶液表现出高于90摄氏度的闪点；

和

其中所述溶液包含小于1重量％的季铵氢氧化物。

2.一种从衬底除去光致抗蚀剂和相关聚合物材料的方法，其包括以下步骤：

将衬底浸入根据权利要求1所述的剥离剂溶液中。

3.根据前述权利要求中任一项所述的剥离剂溶液或方法，其还包含第三溶剂，其中所述主要、次要和第三溶剂的总量为50重量％至99.5重量％。

4.根据前述权利要求中任一项所述的剥离剂溶液或方法，其中所述腐蚀抑制剂是间苯二酚、甘油、木糖醇、山梨糖醇或硝酸铜(II)半(五水合物)，或其组合。

5.根据前述权利要求中任一项所述的剥离剂溶液或方法，其中所述腐蚀抑制剂的存在量为0.001重量％至0.1重量％。

6.根据前述权利要求中任一项所述的剥离剂溶液或方法，其中所述剥离剂溶液包含小于1重量％的含硫溶剂和/或所述剥离剂溶液包含小于1％的沸点为至少100℃的醇。

7.根据前述权利要求中任一项所述的剥离剂溶液或方法，其中所述氢氧化钾的存在量为1重量％至3重量％。

8.根据前述权利要求中任一项所述的剥离剂溶液或方法，其中基于组合物的总重量，所述主要溶剂的重量％和所述次要溶剂的重量％之和为50重量％至99.5重量％。