[发明专利]一种自修复型表面双电层分离膜制备方法在审
申请号: | 201910296614.1 | 申请日: | 2019-04-13 |
公开(公告)号: | CN110124538A | 公开(公告)日: | 2019-08-16 |
发明(设计)人: | 蔡韬;李雪;赵裕杰;张熙荣;向政;赵宏鹏 | 申请(专利权)人: | 武汉大学深圳研究院 |
主分类号: | B01D71/78 | 分类号: | B01D71/78;B01D69/02;B01D67/00 |
代理公司: | 广东德而赛律师事务所 44322 | 代理人: | 叶秀进 |
地址: | 518057 广东省深圳市南山区科*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 分离膜 负电 聚合物 双电层 分离膜表面 组分聚合物 自修复 制备 次外层 微缝隙 接枝 表面功能性 自修复性能 补偿电荷 聚多巴胺 制备材料 制备过程 静电 功能层 微损伤 再利用 粘附性 最外层 鞣酸 合成 邻近 修复 应用 | ||
本发明提供了一种自修复型表面双电层分离膜的制备方法,先分别合成带负电或者正电的两组分聚合物,再利用聚多巴胺或者鞣酸的粘附性,将带负电的两组分聚合物接枝于分离膜表面,之后再将带正电的两组分聚合物接枝于分离膜上,制备得到具有自修复性能的表面双电层分离膜。本发明利用在次外层的负电聚合物提供表面功能性,利用最外层的正电聚合物与次外层负电聚合物之间的静电相互作用,使分离膜表面在受到微损伤出现微缝隙时,由邻近聚合物提供补偿电荷,及时修复微缝隙,提高分离膜表面功能层的稳定性。本发明处理得到的自修复型表面双电层分离膜,制备材料来源广泛,制备过程简单,具有较好的应用前景和市场前景。
技术领域
本发明属于水处理用高分子膜材料的制备领域,尤其涉及一种自修复型表面双电层分离膜制备方法。
背景技术
利用带电高分子作为表面修饰层的高分子膜在水处理过程,如纳滤和渗透过程中得到了大量应用。然而,在实际应用中,表面修饰层由于膜操作环境的长期作用,受到高压、酸碱腐蚀、机械作用等,容易出现微损伤;这些微损伤(如微缝隙、微变形等)在初期难以被人察觉,慢慢积累后成为不可逆的宏观损伤,破坏表面层的完整性,降低稳定性,最终导致表面修饰功能的失效。传统的修复技术只针对宏观损伤,对微损伤不适用。
基于动态可逆体系的自修复材料,依靠分子作用力的断开-结合可逆过程,不需要外加修复剂,即可自我修复微损伤,这类材料已得到了一定研究。如在高分子凝胶网络中引入动态氢键,使材料实现自修复(Nature Chem.,2012,4,467);采用呋喃多聚体和马来酰亚胺多聚体单体合成自愈合大分子网络,通过热处理(120℃)实现裂纹修复(Science,2002,295,1698);也有研究者将采用动态酰腙键的可逆反应制备得到调节pH值引发的自修复体系(Macromolecules,2010,43,1191)。利用分子间作用力与静电作用,制备具有自修复能力的膜表面功能层,为提高高分子分离膜使用稳定性提供解决方法。上述方法制备过程复杂,稳定性差。
发明内容
本发明要解决的技术问题在于,针对现有技术的不足,提供一种自修复型表面双电层分离膜制备方法。
为解决上述技术问题,本发明采用如下技术方案。
一种自修复型表面双电层分离膜的制备方法,包括有如下步骤:
S1,制备带电性为负电荷的两组分共聚物A-B;
S2,制备带电性为正电荷的两组分共聚物C-D;
S3,在分离膜表面涂覆粘附性材料;
S4,将步骤S1中所制备的两组分共聚物A-B配置成水溶液接枝修饰于步骤S3涂覆后的分离膜表面;
S5,将步骤S2中所制备的两组分共聚物C-D配置成水溶液修饰于步骤S4表面负电性改性分离膜,得到自修复型表面双电层分离膜。
优选地,所述步骤S1中,所述两组分共聚物A-B为线性共聚物,A组分与B组分接枝比例为99:1至1:99;其中A组分为接枝位点,包括所有带巯基和氨基的聚合链段及其前驱体;B组分为带负电聚合物链段,包括所有带负电的羧酸基、磺酸基、磷酸基的聚合链段及其前驱体。
优选地,所述步骤S2中,所述两组分共聚物C-D为线性共聚物,C组分与D组分接枝比例为99:1至1:99;其中C为接枝位点,包括所有带巯基和氨基的聚合链段及其前驱体;D组分为带正电聚合物链段,包括所有带正电的季铵盐、胍鎓盐、吡啶鎓盐、咪唑鎓盐、季鏻盐、硫鎓盐的聚合链段及其前驱体。
优选地,所述步骤S1中,所述两组分共聚物A-B为超支化聚合物,A组分与B组分接枝比例为99:1至1:99;其中A组分为接枝位点,包括所有带巯基和氨基的聚合链段及其前驱体,B组分为所有带负电的羧酸基、磺酸基、磷酸基的聚合链段及其前驱体。
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