[发明专利]一种皮秒激光高功率增透膜及其制备方法

权利要求书

1.一种皮秒激光高功率增透膜，其特征在于：包括基底层，基底层上交替沉积有Hf层和SiO₂层，Hf层和SiO₂层的层数相等。

2.如权利要求1所述的皮秒激光高功率增透膜，其特征在于：Hf层和SiO₂层的层数均为2-5层。

3.如权利要求1或2所述的皮秒激光高功率增透膜，其特征在于：包括基底层，基底层上依次沉积有第一Hf层、第一SiO₂层、第二Hf层和第二SiO₂层。

4.如权利要求3所述的皮秒激光高功率增透膜，其特征在于：第一Hf层的厚度为319.2±10nm，第一SiO₂层的厚度为2447.2±10nm，第二Hf层的厚度为1170.4±10nm，第二SiO₂层的厚度为1032.08±10nm。

5.如权利要求1或2所述的皮秒激光高功率增透膜，其特征在于：基底层为石英玻璃基底层；皮秒激光高功率增透膜在1064波段透过率在99.8％以上，在650波段透过率在98％以上。

6.权利要求1-5任意一项所述的皮秒激光高功率增透膜的制备方法，其特征在于：采用离子源辅助电子束蒸发方法在基底层依次交替沉积Hf层和SiO2层。

7.如权利要求6所述的制备方法，其特征在于：包括如下步骤：

1)对铪和SiO₂膜料进行单独预熔处理，去除膜料内部的杂质；

2)将基底层清洁后，置于真空室内，在真空室内压强为(1.8±0.2)×10^-3Pa、烘烤温度为250-300℃的条件下，采用离子源辅助电子束蒸发方法在基底层的表面依次沉积复合层和MgF₂层。

8.如权利要求7所述的制备方法，其特征在于：步骤2)中，基底层清洁方法为：将基底层表面进行超光滑表面抛光，使表面粗糙度Ra小于5埃，然后超声波清洗；沉积时，在真空室导入高纯氧气使得沉积材料在高真空状态下能得到充分氧化，并在射频源的作用下，提高成膜致密性，降低了薄膜的吸收，从而提高抗激光损伤阈值。

9.如权利要求8所述的制备方法，其特征在于：步骤2)中，沉积Hf层时，高纯氧气的充气量为150-180sccm；沉积Hf层SiO₂时，高纯氧气的充气量为60-100sccm。

10.如权利要求7-9任意一项所述的制备方法，其特征在于：步骤2)中，离子源束流为20A；Hf的蒸发速率为0.15±0.02nm/S,SiO₂的蒸发速率为1±0.02nm/S。