[发明专利]一种石墨烯/InGaN多结异质太阳能电池及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201910305474.X 申请日: 2019-04-16
公开(公告)号: CN110137269A 公开(公告)日: 2019-08-16
发明(设计)人: 林时胜;姚天易;孙利杰;周大勇;陆阳华 申请(专利权)人: 浙江大学;上海空间电源研究所
主分类号: H01L31/0216 分类号: H01L31/0216;H01L31/078;H01L31/18
代理公司: 杭州求是专利事务所有限公司 33200 代理人: 万尾甜;韩介梅
地址: 310058 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 石墨烯 异质太阳能电池 多结 太阳能电池 隧穿结 异质结 光电转换效率 背面电极 晶格匹配 开路电压 量子点层 吸收光谱 有效控制 正面电极 电池层 减反层 禁带 制备
【权利要求书】:

1.一种石墨烯/InxGa1-xN多结异质太阳能电池,其特征在于,自下而上依次有背面电极(1)、Ge电池层(2)、第一隧穿结(3)、GaAs电池层(4)、第二隧穿结(5)、石墨烯/InxGa1-xN层(6)、量子点层(7)、减反层(8)和正面电极(9);所述的石墨烯/InxGa1-xN层(6)是通过湿法转移至第二隧穿结上并使得InxGa1-xN与第二隧穿结直接接触。

2.根据权利要求1所述的石墨烯/InxGa1-xN多结异质太阳能电池,其特征在于,所述的背面电极(1)是金、钯、银、钛、铬、镍、ITO、FTO、AZO的一种或者几种的复合电极。

3.根据权利要求1所述的石墨烯/InxGa1-xN多结异质太阳能电池,其特征在于,所述的正面电极(9)是金、钯、银、钛、铜、铂、铬、镍、ITO、FTO、AZO的一种或者几种的复合电极。

4.根据权利要求1所述的石墨烯/InxGa1-xN多结异质太阳能电池,其特征在于,所述的第一隧穿结(3)和第二隧穿结(5)选自重掺杂的AlGaAs、GaInP、GaAs、InGaAs中的一种或几种。

5.根据权利要求1所述的石墨烯/InxGa1-xN多结异质太阳能电池,其特征在于,所述的InxGa1-xN为n型或p型掺杂的InxGa1-xN,0<x<1。

6.根据权利要求1所述的石墨烯/InxGa1-xN多结异质太阳能电池,其特征在于,所述的石墨烯/InxGa1-xN层(3)中石墨烯的厚度为0.4纳米至10纳米。

7.根据权利要求1所述石墨烯/InxGa1-xN多结异质太阳能电池,其特征在于,所述的量子点层(7)为金、银、铝、镍、氧化锌中的一种,量子点尺寸为5纳米至200纳米。

8.根据权利要求1所述的石墨烯/InxGa1-xN多结异质太阳能电池,其特征在于,所述的减反层(8)为具有减反射透光薄膜,选自氧化硅、氮化硅、氧化铝、氧化钛、碳化硅、氮化硼和氧化铪中的任意一种或几种。

9.制备如权利要求1-8任一项所述的石墨烯/InxGa1-xN多结异质太阳能电池的方法,其特征在于,该方法包括如下步骤:

1)首先制备Ge太阳能电池并在一面制作背面电极,另一面制作第一隧穿结;

2)在步骤1)所得的Ge太阳能电池第一隧穿结上生长GaAs电池层并制作第二隧穿结;

3)采用湿法转移将石墨烯转移至预先生长好的InxGa1-xN上,获得石墨烯/InxGa1-xN,再采用湿法转移将石墨烯/InxGa1-xN转移至步骤2)所得的双结半导体衬底第二隧穿结上,使得InxGa1-xN与第二隧穿结直接接触;

4)在步骤3)的基础上,在石墨烯层上添加量子点层;

5)在步骤4)的基础上,在量子点层上制作减反层;

6)在步骤5)的基础上,在减反层上制作正面电极。

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