[发明专利]用于盖与喷嘴上的稀土氧化物基涂层的离子辅助沉积

权利要求书

1.一种用于处理腔室的部件，所述部件具有唇缘并且包括：

陶瓷主体，所述陶瓷主体具有至少一个表面，所述至少一个表面具有8-16微英寸的第一平均表面粗糙度；以及

共形保护层，所述共形保护层位于所述陶瓷主体的至少一个表面上，其中所述共形保护层是在所述至少一个表面上面具有小于300μm的均匀的厚度的抗等离子体稀土氧化物膜，并且所述抗等离子体稀土氧化物膜具有小于所述第一平均表面粗糙度的第二平均表面粗糙度，

其中所述共形保护层不覆盖所述唇缘的至少一部分。

2.如权利要求1所述的部件，其中，所述共形保护层包含Y₄Al₂O₉或YF₃中的至少一个。

3.如权利要求1所述的部件，其中，所述共形保护层具有10-30μm的厚度以及小于1％的孔隙度。

4.如权利要求1所述的部件，其中，所述共形保护层的所述平均表面粗糙度小于8微英寸。

5.如权利要求1所述的部件，其中，所述共形保护层的所述均匀的厚度是约0.5-7.0μm。

6.如权利要求1所述的部件，其中，所述陶瓷主体是块状烧结陶瓷体，所述块状烧结陶瓷体包含以下中的至少一者：Y₂O₃或包含Y₄Al₂O₉与Y₂O₃-ZrO₂固溶体的陶瓷化合物。

7.如权利要求1所述的部件，其中，所述共形保护层包含保护层叠层，所述保护层叠层包含多个抗等离子体的稀土氧化物膜，所述多个抗等离子体的稀土氧化物膜包含在所述至少一个表面上的第一抗等离子体的稀土氧化物膜以及在所述第一抗等离子体的稀土氧化物膜上的第二抗等离子体的稀土氧化物膜，其中，所述多个抗等离子体的稀土氧化物膜中的每一个具有小于20微米的厚度。

8.如权利要求1所述的部件，其中，所述陶瓷主体具有至少12英寸的直径，并且其中所述陶瓷主体的下表面的曲率在所述下表面上小于50微米。

9.如权利要求1所述的部件，其中，所述部件能够在0-1000℃的温度下使用，并且没有由热冲击导致的所述共形保护层破裂。

10.如权利要求1所述的部件，其中，所述共形保护层包含结晶Er₃Al₅O₁₂，所述结晶Er₃Al₅O₁₂具有9.54的介电常数、19.2W/m·K的热导率、9.057GPa的硬度、0.176纳米每小时的磨耗率、对于CF₄蚀刻化学品而言的0.24μm每小时的腐蚀速率以及对于H₂/NF₃等离子体化学品而言的95nm每小时的腐蚀速率。

11.如权利要求1所述的部件，其中，所述部件是盖，所述盖进一步包括：

在所述盖的中心处的孔，其中所述共形保护层覆盖所述孔的壁的至少一部分，并且其中所述共形保护层在所述盖的所述至少一个表面附近较厚，并且进入所述孔越深而逐渐变得更薄。

12.如权利要求1所述的部件，其中，所述部件是盖，并且所述唇缘在所述盖的外径处的所述至少一个表面上，当所述盖关闭时，所述唇缘将与腔室的壁接触，其中所述共形保护层不覆盖所述唇缘。