[发明专利]一种玻璃微蚀刻方法在审
申请号: | 201910308840.7 | 申请日: | 2019-04-17 |
公开(公告)号: | CN110156338A | 公开(公告)日: | 2019-08-23 |
发明(设计)人: | 杨金发 | 申请(专利权)人: | 蚌埠国显科技有限公司 |
主分类号: | C03C15/00 | 分类号: | C03C15/00 |
代理公司: | 合肥市长远专利代理事务所(普通合伙) 34119 | 代理人: | 段晓微 |
地址: | 233000 安*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 蚀刻 玻璃 微蚀刻 覆膜玻璃 均匀涂覆 蚀刻液 脂肪醇聚氧乙烯醚 草酸 质量百分比 玻璃表面 铬层表面 曝光显影 去离子水 光刻胶 金属铬 蚀刻机 铬层 减薄 胶层 良率 量产 | ||
1.一种玻璃微蚀刻方法,其特征在于,包括以下步骤:
S1、在玻璃表面均匀涂覆金属铬形成铬层,在铬层表面均匀涂覆光刻胶形成胶层后得到覆膜玻璃;
S2、将覆膜玻璃曝光显影后得到预蚀刻玻璃;
S3、将预蚀刻玻璃投入蚀刻机中,采用蚀刻液进行蚀刻减薄;其中,所述蚀刻液的原料按质量百分比包括:H2SO4 30-40%、HF 1.1-2%、HCl 0.1-0.5%、HNO3 0.1-1%、草酸0.2-1%、脂肪醇聚氧乙烯醚0.03-0.5%,余量为去离子水。
2.根据权利要求1所述玻璃微蚀刻方法,其特征在于,在S1中,所述玻璃为尺寸为550mm×650mm×0.33mm的钠钙玻璃。
3.根据权利要求1或2所述玻璃微蚀刻方法,其特征在于,在S1中,在玻璃表面均匀涂覆金属铬之前,还包括将玻璃表面进行超声波清洗。
4.根据权利要求1-3中任一项所述玻璃微蚀刻方法,其特征在于,在S1中,所述胶层的厚度为2-4μm。
5.根据权利要求1-4中任一项所述玻璃微蚀刻方法,其特征在于,在S1中,所述光刻胶的原料按重量份包括:酚醛树脂35-47份、改性丙烯酸羟乙酯8-13份、双丙酮丙烯酰胺3-7份、2-苯氧基乙基丙烯酸酯2-11份、光引发剂907 1-2份、光引发剂ITX 0.2-0.6份、硫酸钡2-11份、水溶性石墨烯3-9份、溶剂25-40份、助剂0.2-1.3份。
6.根据权利要求5所述玻璃微蚀刻方法,其特征在于,所述改性丙烯酸羟乙酯按照以下工艺进行制备:将丙烯酸羟乙酯和对羟基苯甲醚加入反应装置中,在氮气的保护下升温至65-75℃,加入三苯基膦,然后加入苯酐,升温至80-85℃,保温反应至酸值稳定后降温出料,得到物料A;将正丁醇加入反应装置中,在氮气的保护下升温至70-85℃,加入物料A、3-羟基-1-金刚烷基甲基丙烯酸酯、偶氮二异丁腈和链转移剂,搅拌反应3-4.5h,反应结束后调节温度为105-110℃,加入阻聚剂、催化剂后搅拌20-35min,加入甲基丙烯酸缩水甘油酯,保温反应100-160min,降温至80-90℃,脱除溶剂,然后降温至60-70℃,加入N,N-二甲基乙醇胺搅拌20-35min得到所述改性丙烯酸羟乙酯。
7.根据权利要求6所述玻璃微蚀刻方法,其特征在于,在改性丙烯酸羟乙酯的制备过程中,丙烯酸羟乙酯、苯酐的摩尔比为1:1.5-2;物料A、3-羟基-1-金刚烷基甲基丙烯酸酯的重量比为5-15:2-4;所述催化剂为四丁基溴化铵;所述阻聚剂为4-甲氧基苯酚;所述链转移剂为正十二硫醇。
8.根据权利要求1-7中任一项所述玻璃微蚀刻方法,其特征在于,在S2中,还包括将曝光显影后的覆膜玻璃在150-180℃下烘烤30-50min。
9.根据权利要求1-8中任一项所述玻璃微蚀刻方法,其特征在于,在S3中,蚀刻的温度为30-33℃,蚀刻的时间为55-65s。
10.根据权利要求1-9中任一项所述玻璃微蚀刻方法,其特征在于,在S3中,所述蚀刻液的原料按质量百分比包括:H2SO4 39%、HF 1.5%、HCl 0.4%、HNO30.7%、草酸0.8%、脂肪醇聚氧乙烯醚0.08%,余量为去离子水。
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