[发明专利]一种制造图案化涂布层的狭缝式涂布方法在审

专利信息
申请号: 201910309304.9 申请日: 2019-04-17
公开(公告)号: CN110124960A 公开(公告)日: 2019-08-16
发明(设计)人: 李思拥;张杰;曾一鑫 申请(专利权)人: 信利光电股份有限公司
主分类号: B05D1/32 分类号: B05D1/32;B05D5/00
代理公司: 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 代理人: 许青华;廖苑滨
地址: 516600 广东省汕*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 图案化 涂布层 涂布液 垫片 狭缝 狭缝涂布 基材 图案形成部 狭缝式涂布 上模 下模 基材表面 涂布过程 传统的 夹设 制造 挤出
【说明书】:

发明公开了一种制造图案化涂布层的狭缝式涂布方法,包括如下步骤:S1.提供基材;S2.提供狭缝涂布头,所述狭缝涂布头包括上模、下模以及夹设于所述上模与所述下模之间的垫片,所述垫片具有图案形成部,其形成有使涂布液通过的若干个狭缝通道;S3.由上述狭缝通道挤出涂布液,控制所述狭缝涂布头和所述基材相对运动,以在基材表面形成图案化涂布层。本发明中,改变传统的垫片的结构,所述垫片具有图案形成部,其形成有使涂布液通过的若干个狭缝通道,在涂布过程中,涂布液通过若干个狭缝通道在所述基材上形成图案化涂布层。

技术领域

本发明涉及了狭缝式涂布技术领域,特别是涉及了一种制造图案化涂布层的狭缝式涂布方法。

背景技术

狭缝式涂布是一种高精密的涂布方式,不仅用于传统产业:如胶带、电影底片、功能隔膜、封装膜、墙壁纸的制造,亦用在高增值的电子产业:如印刷电路板、电容膜、光学膜、表面硬化涂布、显视基板光阻涂布等制程。而最近更应用在发展迅速的再生能源产业:如铜铟镓硒薄膜太阳能电池、高份子太阳能电池、锂电池等的制备工序中。

狭缝式涂布的工作原理是:在压力作用下,涂布液从涂布头的缝隙挤出而转移到基材上。目前狭缝式涂布的技术研究主要集中于涂布头设计上,因为它是决定涂布质量好坏的重要因素之一。现有的狭缝涂布头通常由上模、下模以及设于上模和下模之间的垫片构成,垫片的设置可在上模与下模之间形成一侧具有出料口的狭缝通道,涂布液通过所述狭缝通道向出料口挤出以进行涂布作业。但是,参见图1,现有的垫片的形状为凹字形,形成的具有出流口的狭缝通道仅为一个,在涂布过程中,涂布液从狭缝通道挤出而转移到基材时,形成连续均匀分布的涂布层。

除具有连续均匀分布的涂布层之外,可能需要在上述基材表面上提供涂布的图案, 例如,其中图案化的涂布包括在上述基底表面上的被未涂布区域分隔开的涂布区域。例如,对于光敏层和/或发光层的制造,可能需要在基底上提供分隔开的活性区域,例如用于构建光电池的阵列。用来提供图案化涂布层的很多不同的方法是已知的,例如印刷或压印技术,诸如喷墨印刷、旋转丝网印刷、凹版印刷、胶版印刷、柔版印刷。可惜的是,还没有采用狭缝式涂布制造图案化涂布层的方法。

发明内容

为了弥补已有技术的缺陷,本发明提供一种制造图案化涂布层的狭缝式涂布方法。

本发明所要解决的技术问题通过以下技术方案予以实现:

一种制造图案化涂布层的狭缝式涂布方法,包括如下步骤:

S1.提供基材;

S2.提供狭缝涂布头,所述狭缝涂布头包括上模、下模以及夹设于所述上模与所述下模之间的垫片,所述垫片具有图案形成部,其形成有使涂布液通过的若干个狭缝通道;

S3. 由上述狭缝通道挤出涂布液,控制所述狭缝涂布头和所述基材相对运动,以在基材表面形成图案化涂布层。

进一步地,所述涂布液在所述基材上被涂布成离散的图案。

进一步地,所述图案形成部具有与所述待涂布的图案相对应的若干镂空结构。

进一步地,所述垫片的材料为金属材料。

进一步地,所述垫片的厚度为0.02-0.08mm。

本发明具有如下有益效果:

本发明中,改变传统的垫片的结构,所述垫片具有图案形成部,其形成有使涂布液通过的若干个狭缝通道,在涂布过程中,涂布液通过若干个狭缝通道在所述基材上形成图案化涂布层。

采用本发明的狭缝式涂布方法能够形成具有丰富的图案效果的涂布层,图案可控,迎合市场的需要,使用简单,成本低。

附图说明

图1为现有的垫片的结构示意图;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于信利光电股份有限公司,未经信利光电股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910309304.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top