[发明专利]一种光学元件表面微小缺陷二维轮廓的检测方法有效
申请号: | 201910311988.6 | 申请日: | 2019-04-18 |
公开(公告)号: | CN110006924B | 公开(公告)日: | 2021-06-29 |
发明(设计)人: | 王红军;武雄骁;田爱玲;刘卫国;王大森;朱学亮;刘丙才 | 申请(专利权)人: | 西安工业大学 |
主分类号: | G01N21/958 | 分类号: | G01N21/958 |
代理公司: | 西安新思维专利商标事务所有限公司 61114 | 代理人: | 黄秦芳 |
地址: | 710032 陕*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 光学 元件 表面 微小 缺陷 二维 轮廓 检测 方法 | ||
1.一种光学元件表面微小缺陷二维轮廓的检测方法,其特征在于:所述的检测方法的步骤为:
步骤一、激光器发出的激光束经过光束整形系统形成会聚光,会聚光经过样品反射后到达CCD靶面,调整样品的位置和姿态,使会聚光束的会聚点位于CCD的靶面中心且使会聚光轴垂直于CCD靶面,此时反射点到CCD靶面中心的距离为L;
步骤二、光束照在样品表面缺陷区域,CCD上得到散射分布图;
步骤三、对散射分布图利用重心法求出中心位置,以中心位置为基准点,沿不同方向取值可以得到一维的光强分布曲线I(w),曲线横坐标为取样方向上每一点与基准点之间的距离w,纵坐标为图像的灰度图,对应该点的光强度I
由光强分布曲线为I(θ),转换为二维矩阵[I,θ];
取光强I的最大值为Imax,取样间隔为ΔImax,光强I的最小值Imin,取样间隔为ΔImin,设置缺陷在取值方向上的宽度范围为(dmin,dmax),取值间隔为Δd
所述缺陷在取样方向上的宽度计算过程如下:
Step1:设置入射光波长λ,设置I0=0,Ig=0,Irms0=a,d=dmin;
Step2:读取二维矩阵[I,θ];
Step3:将d,θ和λ代入得到一维矩阵α;
Step4:将α,I0和Ig代入得到一维矩阵I1;
Step5:计算均方根值Irms=rms(I1-I);
Step6:如果Irms<Irms0,则Irms0=Irms;d′=d;
Step7:Ig=Ig+ΔImin,如果Ig<Imin,则转到Step4;
Step8:I0=I0+ΔImax,如果I0<Imax,则转到Step4;
Step9:d=dmin+Δd,如果d<dmax,则转到Step3;
Step10:d′为计算的缺陷在取样方向上的宽度;
步骤四、重复步骤三的过程,对于散射图在不同的方向上取值,可以获得缺陷在不同取样方向上的宽度值,由此拟合出缺陷的二维轮廓。
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