[发明专利]一种涂胶显影设备运动参数检测装置及方法

说明书

本发明涉及一种涂胶显影设备运动参数检测装置及方法，装置包括控制器、LK‑G30传感头、LK‑G500传感头、电源模块和上位机；方法包括在一个周期内，设定机械手的若干个设定位置，控制机械手运动到达设定位置，并通过LK‑G500传感头采样当前设定位置的到位信息，经过多个周期后得到到位信息数据集，分析到位信息数据集后提取到位信息特征值；设定晶圆的若干个设定转速，控制晶圆旋转达到设定转速，并通过LK‑G30传感头采样不同设定转速下的端跳数据，分析端跳数据集后提取端跳特征值。本发明对机械手重复定位精度进行检测，指导设备制造厂商的零部件选型和提高装备精度；对晶圆和真空卡盘在不同转速下的端跳变化规律进行检测。对工艺参数的优化也有着重要的指导作用。

技术领域

本发明涉及半导体制造技术领域，具体地说是一种涂胶显影设备运动参数检测装置及方法。

背景技术

随着我国科学技术的发展，我国的集成电路制造行业得到了极大的发展。涂胶显影设备是集成电路制造关键设备之一，其作用是在晶圆上涂敷光刻胶，与光刻机配合，曝光后显影，保证掩膜版图形的正确转印。半导体集成电路制造工艺的具有十分复杂的多样性，涂胶、显影、刻蚀等每道工序通常都面对不同的制造流程、多样的配方参数的变化，每种变化都会对最终的制品产生很大的影响，这通常涉及到控制工艺处理的运动系统的性能，具体关于各个工艺单元运动控制执行部件的准确性和一致性。其中机械手重复定位精度将最终影响到晶圆与工艺腔室轴心的同轴度，在涂胶显影单元中，当同轴度偏差超出一定范围后将会影响涂胶均匀性，当同轴偏差过大时，将会碎片进而导致整机设备停机的严重后果。对机械手重复定位精度监测是十分必要的，可以指导设备制造厂商的零部件选型和提高装备精度。另外晶圆和真空卡盘的端跳对工艺参数的优化也有着重要的指导作用。

针对凸点封装涂胶、显影、湿法刻蚀工艺设备运动控制的运行特点，构建可以衡量其运行状态的检测系统，验证其运动控制的正确性和一致性。通过采集的运动控制系统运行时数据，分析系统参数，针对涂胶、显影、单片湿法刻蚀工艺，及时调整运动状态，提出改进意见，以满足集成电路装备工业生产的需求。最后验证系统长期运行的稳定性，以及运行的可靠性与可维护性。

发明内容

针对现有技术的不足，本发明提供一种涂胶显影设备运动参数检测装置及方法，用于测量机械手重复定位精度以及晶圆和真空卡盘的端跳。

本发明为实现上述目的所采用的技术方案是：

一种涂胶显影设备运动参数检测装置，包括：

控制器；

LK-G30传感头，设置于晶圆正上方，且连接控制器，接收控制器的采样触发信号，采集晶圆在不同转速下的端跳信息，发送给控制器；

LK-G500传感头，设置于正对机械手的位置，且连接控制器，接收控制器的采样触发信号，采集机械手的位置信息，发送给控制器；

电源模块，连接控制器，为控制器供电；

上位机，连接控制器，向控制器发送控制指令，并接收控制器发送的检测数据。

所述控制器为LK-G3001V控制器，采用USB通讯接口。

一种涂胶显影设备运动参数检测方法，包括：

在一个周期内，设定机械手的若干个设定位置，控制机械手运动到达设定位置，并通过LK-G500传感头采样当前设定位置的到位信息，并将到位信息发送给控制器；经过多个周期后得到到位信息数据集，分析到位信息数据集后提取到位信息特征值；

设定晶圆的若干个设定转速，控制晶圆旋转达到设定转速，并通过LK-G30传感头采样不同设定转速下的端跳数据，并将端跳数据发送给控制器，得到端跳数据集，分析端跳数据集后提取端跳特征值。