[发明专利]波长转换聚合物膜

权利要求书

1.一种聚合物膜，其包含至少一种无机荧光化合物以及至少一种有机荧光化合物，其特征在于所述聚合膜中的无机化合物的浓度由所述的聚合物膜的上侧上的高浓度变为聚合物膜的下侧上的低浓度，而所述的聚合物膜中的有机荧光化合物的浓度相反地由所述的聚合物膜的上侧上的低浓度变为聚合物膜的下侧上的高浓度。

2.根据权利要求1所述的聚合物膜，其特征在于所述的无机荧光化合物吸收最大吸收峰波长在250nm至400nm范围内的辐射，且发射最大发射峰波长在500至1000nm范围内的辐射。

3.根据权利要求1所述的聚合物膜，其特征在于所述的有机荧光化合物吸收最大吸收峰波长在300nm至500nm范围内的辐射，且发射最大发射峰波长在500至1000nm范围内的辐射。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的聚合物膜，其特征在于所述的无机荧光化合物选自基于硫化物、硫代镓酸盐、氮化物、氧氮化物、硅酸盐、铝酸盐、磷灰石、硼酸盐、氧化物、磷酸盐、卤磷酸盐、硫酸盐、钨酸盐、钽酸盐、钒酸盐、钼酸盐、铌酸盐、钛酸盐、锗酸盐或卤化物的荧光体。

5.根据权利要求1至3中任一项所述的聚合物膜，其特征在于所述的无机荧光化合物的粒度在1至100nm的范围内。

6.根据权利要求1至3中任一项所述的聚合物膜，其特征在于所述的有机荧光化合物选自荧光素、若丹明、香豆素、芘、花青、苝或二氰基亚甲基。

7.根据权利要求1至3中任一项所述的聚合物膜，其特征在于所述的聚合物膜的层厚度介于0.1μm和3,000μm之间。

8.根据权利要求1至3中任一项所述的聚合物膜，其特征在于所述的聚合物膜的层厚度介于1μm与500μm之间。

9.根据权利要求1至3中任一项所述的聚合物膜，其特征在于所述的聚合物膜的层厚度介于10μm与200μm之间。

10.根据权利要求1至3中任一项所述的聚合物膜，其特征在于其包含对于在200至1200nm之间的辐射具有适宜透射率值的光固性树脂、和/或热固性树脂、和/或热塑性树脂。

11.一种制造根据权利要求1至10中任一项的聚合物膜的方法，其特征在于包含以下步骤：

-在基材上提供至少一层混合物，所述的混合物包含至少一种分散介质和至少一种有机荧光化合物

-固化所述的混合物，且任选地，

-将所述的聚合物膜由所述的基材移除。

12.根据权利要求1至10中任一项所述的聚合物膜的用途，其用作波长转换膜，将波长约小于500nm的辐射转换为波长在约大于500nm的范围内的辐射。