[发明专利]一种用于经颅磁刺激仪的经皮定位导向器在审

专利信息
申请号: 201910318636.3 申请日: 2019-04-19
公开(公告)号: CN110141788A 公开(公告)日: 2019-08-20
发明(设计)人: 王继军;唐莺莹;张天宏;王克 申请(专利权)人: 王继军
主分类号: A61N2/04 分类号: A61N2/04;B33Y50/00;B33Y80/00;B33Y10/00
代理公司: 上海骁象知识产权代理有限公司 31315 代理人: 赵俊寅
地址: 200023 上海市*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 发射头 支架 枕架 面具 定位导向器 经颅磁刺激 患者头部 经皮 匹配 患者脑组织 靶点坐标 患者脸部 解剖模型 连接固定 模型设计 三维模型 扫描数据 锁合机构 磁刺激 头枕部 靶点 三维 医生
【说明书】:

本发明公开了一种用于经颅磁刺激仪的经皮定位导向器,通过患者头部完整的MRI扫描数据,建立患者脑组织三维解剖模型,确定靶点的LPS坐标。同样利用该扫描数据,建立患者头部外表面三维模型。利用该模型设计的面具将与患者脸部匹配,后部枕架与患者头枕部匹配。面具与枕架通过一个专门设计的锁合机构相互连接。面具上设置有第一发射头支架、第二发射头支架,枕架上设置有第三发射头支架。根据医生提供的靶点坐标设计面具的第一发射头支架、第二发射头支架,枕架的第三发射头支架;第三发射头支架与第一发射头支架或/和第二发射头支架一部分连接固定;第一发射头支架、第二发射头支架、第三发射头支架分别为需要进行磁刺激的部位。

技术领域

本发明涉及一种经颅磁刺激技术,特别是涉及一种用于经颅磁刺激仪的经皮定位导向器。

背景技术

经经颅磁刺激(Transcranial Magnetic Stimulation ,TMS)技术是一种利用脉冲磁场作用于中枢神经系统(主要是大脑),改变皮层神经细胞的膜电位,使之产生感应电流,影响脑内代谢和神经电活动,从而引起一系列生理生化反应的磁刺激技术。目前这一技术在神经认知的基础研究和神经、神经疾病的临床应用中获得了较为成熟的发展。

现有治疗抑郁症的经颅磁刺激仪治疗过程中采用光学导航,其在病人头部定位治疗坐标,这种方式定位时间久且价格昂贵。通过光学或图像识别在国内的研究成果有公开号为CN104740780B、CN206167639U等中国专利

发明内容

有鉴于现有技术的上述缺陷,本发明所要解决的技术问题是提供一种用于经颅磁刺激仪的经皮定位导向器,通过该个体化支具,可实现对经颅磁刺激干预位点的精准定位,从而起到提高经颅磁刺激治疗抑郁症疗效的效果。在本发明中,将制定经颅磁刺激精准定位方案的工作提前至首次治疗前完成,通过形成个体化支具而固化下来,避免了患者在每次接受经颅磁治疗前重复进行精准定位操作,不仅节约了患者治疗前的准备时间,并且降低了经颅磁治疗操作人员的操作难度,提高了操作的可靠性,有效地解决了经颅磁刺激治疗精准定位的难题,且具有易操作、简便、可便携、可重复使用等优势。

为实现上述目的,本发明提供了一种用于经颅磁刺激仪的经皮定位导向器,包括面具、枕架,以及连接面具和枕架的锁合机构,通过患者头部完整的MRI扫描数据,建立患者脑组织三维解剖模型,确定靶点的坐标。同样利用该扫描数据,建立患者头部外表面三维模型。利用该模型设计的面具将与患者脸部匹配,后部枕架与患者头枕部匹配。面具与枕架通过一个专门设计的锁合机构相互连接。该锁合机构允许面具与枕架相互压紧,通过旋钮拧紧后构成一个刚性的“面具—枕架”系统,确保其利用鼻梁与下颏的形状在患者头部定位固定。根据计算机中患者脑部三维模型和标定的靶点位置,设计治疗仪发射头的支架位置,并将其与“面具—枕架”系统连接,确保发射头置于该支架后电磁波发射方向瞄准靶点,实现精准治疗。所述面具上设置有发射头支架,发射头支架可以设计为最多3个,以满足临床的需要。支具通过3D打印工艺完成制作。所述面具上设置有第一发射头支架、第二发射头支架,所述第一发射头支架第二发射头支架内部为贯穿的通槽,且第一发射头支架、第二发射头支架一部分连接固定;

所述枕架上设置有第三发射头支架,所述第三发射头支架内部也为贯穿的通槽,且第三发射头支架与第一发射头支架或/和第二发射头支架一部分连接固定;所述第一发射头支架、第二发射头支架、第三发射头支架分别为需要进行磁刺激的部位。

优选地,所述枕架上设置有插接槽。

优选地,锁合机构,包括锁合框,锁合框固定在枕架位于插接槽处外壁上,所述锁合框内部为贯穿的锁合通槽;

所述面具与锁合通槽对应处设置有锁合板,所述锁合板装入锁合通槽内,且所述锁合通槽内还安装有压紧板,所述压紧板一端面与与锁合板压紧。

优选地,螺栓穿过锁合框进入锁合通槽内,使螺栓端面与压紧板背离锁合板的端面压紧,所述螺栓与锁合框通过螺纹旋合装配。

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