[发明专利]降低光学指纹识别模组高度的方法在审
| 申请号： | 201910318754.4 | 申请日： | 2019-04-19 |
| 公开（公告）号： | CN111832359A | 公开（公告）日： | 2020-10-27 |
| 发明（设计）人： | 赵立新;杜柯 | 申请（专利权）人： | 格科微电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | G06K9/00 | 分类号： | G06K9/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 降低 光学 指纹识别 模组 高度 方法 | ||
1.一种降低光学指纹识别模组高度的方法，其特征在于，
所述光学指纹识别模组包括准直装置和图像传感器，
所述光学指纹识别模组中去除独立的红外截止滤波元件，以降低光学指纹识别模组的整体高度。
2.如权利要求1所述的降低光学指纹识别模组高度的方法，其特征在于，带有指纹信息的反射光经过准直装置入射到图像传感器感光单元上，所述准直装置的材料具有吸收红外光的特性。
3.如权利要求2所述的降低光学指纹识别模组高度的方法，其特征在于，所述准直装置为具有通孔的硅材料。
4.如权利要求1所述的降低光学指纹识别模组高度的方法，其特征在于，所述图像传感器感光单元的PN结的耗尽区深度小于3μm，以减少感光单元对红外光的吸收。
5.如权利要求1所述的降低光学指纹识别模组高度的方法，其特征在于，所述图像传感器采用N型衬底，以减少红外光引起的噪声串扰。
6.如权利要求1所述的降低光学指纹识别模组高度的方法，其特征在于，所述图像传感器表面具有红外截止滤波镀层或红外截止滤波涂层。
7.如权利要求6所述的降低光学指纹识别模组高度的方法，其特征在于，在所述图像传感器表面形成平坦化的介质层，在平坦化的介质层上形成红外截止滤波镀层。
8.如权利要求7所述的降低光学指纹识别模组高度的方法，其特征在于，通过物理气相沉积的方式形成介质层，通过化学机械研磨的方式平坦化所述介质层。
9.如权利要求7所述的降低光学指纹识别模组高度的方法，其特征在于，所述介质层为二氧化硅层。
10.如权利要求6所述的降低光学指纹识别模组高度的方法，其特征在于，通过旋转喷涂的方式形成所述红外截止滤波涂层。
11.如权利要求6所述的降低光学指纹识别模组高度的方法，其特征在于，所述红外截止滤波涂层为有机涂层。
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