[发明专利]掩膜版和掩膜版的张网方法有效

专利信息
申请号: 201910319253.8 申请日: 2019-04-19
公开(公告)号: CN110158026B 公开(公告)日: 2021-05-11
发明(设计)人: 籍亚男;葛林;蔡世星 申请(专利权)人: 昆山国显光电有限公司
主分类号: C23C14/04 分类号: C23C14/04;C23C14/24
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 文小莉;刘芳
地址: 215300 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 掩膜版 方法
【权利要求书】:

1.一种掩膜版,其特征在于,包括第一掩膜版和第二掩膜版,所述第一掩膜版和所述第二掩膜版之间通过粘合层叠贴合在一起,使得所述第一掩膜版和所述第二掩膜版形成整体结构,所述第一掩膜版上具有至少一个呈镂空状的第一蒸镀区以及与异形屏的异形区对应的遮挡区,所述第二掩膜版上具有至少一个第二蒸镀区,每个所述第二蒸镀区上开设多个蒸镀孔,且所述第一蒸镀区与所述第二蒸镀区相对应。

2.根据权利要求1所述的掩膜版,其特征在于,所述遮挡区位于所述第一蒸镀区内,且所述遮挡区与所述第一蒸镀区的边缘相连。

3.根据权利要求1所述的掩膜版,其特征在于,所述第一掩膜版上的部分区域朝向所述第一蒸镀区内延伸形成所述遮挡区。

4.根据权利要求1-3任一所述的掩膜版,其特征在于,所述第一掩膜版设在所述第二掩膜版上,或者所述第二掩膜版设在所述第一掩膜版上。

5.根据权利要求1-3任一所述的掩膜版,其特征在于,所述第二蒸镀区的面积大于等于所述第一蒸镀区的面积。

6.根据权利要求1-3任一所述的掩膜版,其特征在于,所述第一蒸镀区和所述第二蒸镀区为形状相同的方形。

7.根据权利要求1-3任一所述的掩膜版,其特征在于,所述蒸镀孔为圆孔或方孔。

8.一种掩膜版的张网方法,其特征在于,所述方法包括:

提供第一掩膜版和第二掩膜版,其中,第一掩膜版上具有至少一个呈镂空的第一蒸镀区以及与异形屏的异形区对应的遮挡区,第二掩膜版上具有至少一个第二蒸镀区,每个所述第二蒸镀区上开设多个蒸镀孔;

将所述第一掩膜版和所述第二掩膜版通过粘合层叠贴合在一起,以形成层叠设置的双层掩膜版,且所述第一蒸镀区与所述第二蒸镀区相对应;

将所述第一掩膜版和所述第二掩膜版层叠形成的所述双层掩膜版进行张网。

9.根据权利要求8所述的掩膜版的张网方法,其特征在于,所述将所述第一掩膜版和所述第二掩膜版通过粘合层叠贴合在一起,以形成层叠设置的双层掩膜版,包括:

在所述第一掩膜版和所述第二掩膜版中其中一个的非开口区域上设置胶层;

所述第一掩膜版和所述第二掩膜版通过所述胶层贴合形成层叠设置的所述双层掩膜版。

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