[发明专利]遮罩及其制造方法和使用方法有效
| 申请号： | 201910319701.4 | 申请日： | 2019-04-19 |
| 公开（公告）号： | CN110824853B | 公开（公告）日： | 2021-10-26 |
| 发明（设计）人： | 廖啟宏;廖主玮 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F1/38;G03F1/52;G03F1/54 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国 |
| 地址： | 中国台湾新竹市*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 及其 制造 方法 使用方法 | ||
1.一种遮罩的使用方法，其特征在于，包含：
将一遮罩夹持在一遮罩台上，其中该遮罩包含一多层磁膜，其中该多层磁膜为伸展释放膜；
通过该遮罩来执行一第一微影制程；
将该遮罩自该遮罩台移开；
确认该多层磁膜的一表面层的一表面状况是否可接受；以及
当该表面层的该表面状况被确认为不可接受时自该多层磁膜剥离该多层磁膜的该表面层。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，进一步包含：
在剥离该多层磁膜的该表面层之后，将该遮罩夹回该遮罩台；以及
在将该遮罩夹回该遮罩台之后，执行一第二微影制程。
3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，其中：
执行剥离该多层磁膜的该表面层以使得该多层磁膜的另一层的一平坦表面曝露；以及
将该遮罩夹回该遮罩台包含将该多层磁膜的该另一层的该平坦表面连接至该遮罩台。
4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，进一步包含当该表面层的该表面状况可接受时，将该遮罩夹回该遮罩台；以及
在将该遮罩夹回该遮罩台之后，执行一第二微影制程。
5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，其中剥离该多层磁膜的该表面层是手动地执行。
6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，其中将该遮罩夹持在该遮罩台上包含在该遮罩台的一静电卡盘与该遮罩的一多层磁膜的一磁性材料之间产生一吸引力。
7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，其中剥离该多层磁膜的该表面层包含自该多层磁膜的另一层的一释放层卸除该多层磁膜的该表面层的一粘合层。
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